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Dado oficial do INPI

RESINA DE AMINOAMIDA MODIFICADA COM ACRILIATO CURÁVEL POR RADIAÇÃO SEU PROCESSO DE PREPARAÇÃO E COMPOSIÇÃO DE REVESTIMENTO CURÁVEL POR ENERGIA COMPREENDENDO UM COMPONENTE PASSÍVEL DE FORMAR LIGAÇÃO CRUZADA E UM FOTOINICIADOR

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · IB2005004143

Dados do pedido

Número

PI0517170

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

02/12/2005

Publicação

30/09/2008

PCT

IB2005004143

Andamento no INPI

  1. Depósito02/12/05
  2. Publicação30/09/08
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 02/12/2005, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 21/09/2010. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Sun Chemical Limited

GB

Inventores

D. I. (pessoa física)

GB

D. P. (pessoa física)

GB

M. T. (pessoa física)

GB

P. M. (pessoa física)

GB

Dados técnicos

Prioridades unionistas

GB

0427129.2 · 10/12/2004

Resumo técnico

RESINA DE AMINOAMIDA MODIFICADA COM ACRILATO CURÁVEL POR RADIAÇÃO SEU PROCESSO DE PREPARAÇÃO E COMPOSIÇÃO DE REVESTIMENTO CURÁVEL POR ENERGIA COMPREENDENDO UM COMPONENTE PASSIVEL DE FORMAR LIGAÇÃO CRUZADA E UM FOTOINICIADOR. Uma resina de aminoamida modificada com acrilato curável por radiação a qual é o produto da adição de Michael de um polimero termoplástico de aminoamida derivado de um ácido graxo insaturado polimerizado com um éster de poliol tendo pelo menos três grupos de éster de (meta)acrilato, o polímero termoplástico de aminoamida tendo um número de amina de 40 a 60 mg de KOH/g, a proporção dos grupos (meta)acrilato iniciais do éster de poliol para os grupos amino funcionais iniciais do polímero de aminoamida sendo de pelo menos 4:1, a resina é liquida a 25°C e é útil como o componente de resina de vários tipos de composição de revestimento curável por energia, incluindo tintas, vernizes e lacas, especialmente tintas litográficas.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

21/09/2010

RPI 2072

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

25/05/2010

RPI 2055

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

30/09/2008

RPI 1969

Monitoramento de patentes

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