Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2160 de 29/05/2012.
16/10/2012
RPI 2180
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Dado oficial do INPI
COMPOSTOS, PROCESSOS PARA PREPARAR OS MESMOS, E PARA COMBATER FUNGOS NOCIVOS FITOPATOGÊNICOS, AGENTE ADEQUADO PARA COMBATER FUNGOS NOCIVOS, E SEMENTE
Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · EP2005009456
Dados do pedido
Número
PI0514955Tipo
Patente de Invenção
Depósito
02/09/2005
Publicação
01/07/2008
PCT
EP2005009456 Andamento no INPI
- Depósito02/09/05
- Publicação01/07/08
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 16/10/2012. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
B. A. (pessoa física)
DE
Inventores
A. S. (pessoa física)
DE
B. M. (pessoa física)
DE
C. B. (pessoa física)
CN
F. S. (pessoa física)
DE
J. R. (pessoa física)
DE
J. D. (pessoa física)
DE
J. S. (pessoa física)
DE
J. B. (pessoa física)
DE
M. S. (pessoa física)
DE
M. G. (pessoa física)
DE
P. S. (pessoa física)
DE
R. S. (pessoa física)
DE
S. S. (pessoa física)
DE
T. G. (pessoa física)
DE
T. J. (pessoa física)
DE
U. H. (pessoa física)
DE
U. S. (pessoa física)
DE
W. G. (pessoa física)
DE
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
DE
10 2004 043 836.6 · 08/09/2004
Resumo técnico
COMPOSTOS, PROCESSOS PARA PREPARAR OS MESMOS, E PARA COMBATER FUNGOS NOCIVOS FITOPATOGÊNICOS, AGENTE ADEQUADO PARA COMBATER FUNGOS NOCIVOS, E, SEMENTE 6-Fenil-7-aminotriazolopirimidinas da fórmula I em que os substituintes são como definidos abaixo: R^ 1^ é hidrogênio, alquila, haloalquila, cicloalquila, halocicloalquila, alquenila, haloalquenila, cicloalquenila, halocicloalquenila, alquinila, haloalquinila ou fenila, naftila ou um heterociclo saturado, parcialmente insaturado ou aromático de cinco ou seis membros, que compreende de um a quatro heteroátomos do grupo que consiste de O, N e S, R^ 2^ é alquila, haloalquila, cicloalquila, halocicloalquila, alquenila, haloalquenila, cicloalquenila, halocicloalquenila, alquinila, haloalquinila ou fenila, naftila ou um heterociclo saturado, parcialmente insaturado ou aromático de cinco ou seis membros que compreende de um a quatro heteroátomos do grupo que consiste de O, N e S, R^ 3^, R^ 4^, R^ 5^, R^ 6^, R^ 7^ são hidrogênio ou um dos grupos mencionados sob R^ 2^, R^ 4^, junto com ou R^ 3^ ou R^ 6^, também podem formar um anel saturado ou insaturado de cinco ou seis membros que, além dos átomos de carbono, podem compreender de um a três outros heteroátomos do grupo que consiste de O, N eS como os membros do anel; R^ 2^ com R^ 3^ , R^ 4^ com R^ 5^, R^ 6^ com R^ 7^ pode, em cada caso, juntos, com a formação de grupos espiro, também formar uma cadeia de alquileno C~ 2~-C~ 5~ ou alquenileno ou alquinileno que pode ser interrompida por um a três heteroátomos do grupo que consiste de O, N e S; p é zero ou 1; L é halogênio, alquila, haloalquila, alcóxi, ciano, nitro, amino, alquilamino, dialquilamino, alquilcarbonilamirio, C(O)-R, S(O)n-R; onde n é zero, 1 ou 2; R é hidrogênio, alquila, haloalquila, alcóxi, alquenilóxi, alquinilóxi, amino, alquilantno, dialquilamino; m é 1, 2, 3,4 ou 5; X é halogênio, ciano, alquila, alcóxi, alquenilóxi, alquinilóxi ou haloalcóxi; Y é oxigênio ou enxofre; Z é hidrogênio, alquila, haloalquila, cicloalquila, alquilcarbonila, cícloalquilcarbonila, alquenila, haloalquenila, cicloalquenila, alquinila, haloalquinila, fenila, naftila, um heterociclo saturado, parcialmente insaturado ou aromático de cinco a dez membros que compreende de um a quatro heteroátomos do grupo que consiste de O, N e S ou Z junto com ou R^ 4^ ou R^ 6^ também podem formar um anel saturado ou insaturado de cinco ou seis membros que, além dos átomos de carbono e Y, pode compreender um ou dois a outros heteroátomos do grupo que consiste de O, N e S como os membros do anel os grupos R^ 1^ a R^ 7^, Z e R podem ser substituídos de acordo com a descrição; processos para a preparação destes compostos, composições que os compreendem e seu uso para controlar fungos nocivos fitopatogênicos.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente às 4ª, 5ª e 6ª anuidades.
29/05/2012
RPI 2160
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
01/07/2008
RPI 1956
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