Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2158 de 15/05/2012.
09/10/2012
RPI 2179
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Dado oficial do INPI
MÉTODOS PARA A FORMAÇÃO DE FILMES DE ALFA E BETA TÂNTALO COM MICROESTRUTURAS CONTROLADAS
Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · US2005009763
Dados do pedido
Número
PI0509189Tipo
Patente de Invenção
Depósito
24/03/2005
Publicação
25/09/2007
PCT
US2005009763 Andamento no INPI
- Depósito24/03/05
- Publicação25/09/07
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 09/10/2012. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
H.C. Starck, INC.
US
N. U. (pessoa física)
US
Inventores
J. N. (pessoa física)
US
P. K. (pessoa física)
US
R. W. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Prioridades unionistas
US
60/555,759 · 24/03/2004
Resumo técnico
MÉTODOS PARA A FORMAÇÃO DE FILMES DE ALFA E BETA TÂNTALO COM MICROESTRUTURAS CONTROLADAS. A presente invenção refere-se a filmes de tântalo finos que tem novas microestruturas. Os filmes tem microestruturas, tais como cristalinas, de cristal único e amorfas. Estes filmes provêem excelentes propriedades debarreira de difusão e são úteis nos dispositivos microeletrônicos. Métodos para formar os filmes que utilizam os métodos de deposição de laser pulsado (PLD) e de epitaxia de feixe molecular (MBE) são também providos, como são os dispositivos microeletrônicos que incorporam estes filmes.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente às 5ª, 6ª e 7ª anuidades.
15/05/2012
RPI 2158
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
25/09/2007
RPI 1916
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