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Dado oficial do INPI

MÉTODO PARA FORMAR UMA PLURALIDADE DE MICRO-PARTÍCULAS E/OU NANO-PARTÍCULAS, PLURALIDADE DE PARTÍCULAS FORMADA PELO MÉTODO E APARELHO PARA FORMAR UMA PLURALIDADE DE PARTÍCULAS DE ACORDO COM O MÉTODO

ConcedidaPatente de InvençãoPCT · US2004042706

Dados do pedido

Número

PI0417848

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

20/12/2004

Publicação

17/04/2007

PCT

US2004042706

Andamento no INPI

  1. Depósito20/12/04
  2. Publicação17/04/07
  3. Exame
  4. Deferimento06/11/18
  5. Concessão15/01/19
  6. Em vigor20/12/24

Patente concedida em 15/01/2019 e em vigor até 20/12/2024. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:20/12/2024

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Última movimentação publicada pelo INPI: 15/01/2019. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

N. U. (pessoa física)

US

The University Of North Carolina At Chapel Hill

US

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

A. E. (pessoa física)

US

B. M. (pessoa física)

US

E. S. (pessoa física)

US

G. D. (pessoa física)

US

J. R. (pessoa física)

US

J. D. (pessoa física)

US

L. E. (pessoa física)

US

R. S. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

60/531,531 · 19/12/2003

US

60/583,170 · 25/06/2004

US

60/604,970 · 27/08/2004

Resumo técnico

"MÉTODOS PARA PRODUZIR MICRO- E NANO-ESTRUTURAS ISOLADAS UTILIZANDO LITOGRAFIA SUAVE OU DE IMPRESSÃO". O assunto em discussão divulgado pela presente invenção descreve o uso de materiais baseados em elastômeros fluoretados, particularmente, materiais baseados em perfluoropoliéter (PFPE), em aplicações litográficas suaves ou de impressão de alta resolução, tal como moldagem de réplica em microescala ou em nanoescala e a primeira moldagem de nanocontato de materiais orgânicos para gerar características de alta fidelidade usando-se um molde elastomérico. Conseqüentemente, o assunto em discussão divulgado no momento descreve um método para produzir namoestruturas isoladas livres de qualquer forma usando-se técnicas litográficas suaves ou de impressão.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

15/01/2019

RPI 2506

Deferimento

#9.1

06/11/2018

RPI 2496

7.7

NOTIFICAÇÃO DE DEVOLUÇÃO DO PEDIDO POR NÃO SE ENQUADRAR NO ART. 229-C DA LPI.

28/08/2018

RPI 2486

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

17/07/2018

RPI 2480

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

27/02/2018

RPI 2460

Republicação - classificação IPC

#15.11

A Classificação Anterior era: H01L 21/02

06/02/2018

RPI 2457

7.7

NOTIFICAÇÃO DE DEVOLUÇÃO DO PEDIDO POR NÃO SE ENQUADRAR NO ART. 229-C DA LPI.

07/11/2017

RPI 2444

Ciência (anuência ANVISA - art. 229-C)

#7.4

01/03/2017

RPI 2408

Transferência deferida

#25.1

13/05/2014

RPI 2262

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

17/04/2007

RPI 1893

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