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Dado oficial do INPI

BANHO ÁCIDO PARA DEPOSITAR ELETROLITICAMENTE UM DEPÓSITO DE COBRE CONTENDO COMPOSTOS DE FENAZÍNIO MONOMÉRICOS HALOGENADOS OU PSEUSO-HALOGENADOS

IndeferidaPatente de InvençãoPCT · EP2004012851

Dados do pedido

Número

PI0416778

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

09/11/2004

Publicação

27/02/2007

PCT

EP2004012851

Andamento no INPI

  1. Depósito09/11/04
  2. Publicação27/02/07
  3. Exame
  4. Indeferido24/03/15
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido indeferido em 24/03/2015 e o recurso não mudou a decisão. A invenção não chegou a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 24/03/2015. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Atotech Deutschland GMBH

DE

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

H. B. (pessoa física)

DE

U. (. (pessoa física)

DE

W. D. (pessoa física)

DE

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

DE

103 54 860.2 · 19/11/2003

Resumo técnico

"BANHO ÁCIDO PARA DEPOSITAR ELETROLITICAMENTE UM DEPÓSITO DE COBRE CONTENDO COMPOSTOS DE FENAZÍNIO MONOMÉRICOS HALOGENADOS OU PSEUDO-HALOGENADOS". A presente invenção refere-se a compostos de fenazínio monoméricos halogenados ou pseudo-halogenados com uma pureza de, pelo menos, 85 moles % e com a fórmula química geral I, caracterizados por R^ 1^, R^ 2^, R^ 4^, R^ 5^, R^ 6^, R^ 7 ^, R7^ 7 ^, R^ 8^, R^ 9^, X e A^ _^ terem os significados denotados nas reivindicações, são utilizados para fabricação de revestimentos de cobre particularmente uniformes e com brilho de espelho que sejam nivelados e dúcteis, assim como é utilizada uma densidade de corrente relativamente alta. Os compostos são preparados pela diazotização de um composto de partida adequado antes da halogenação ou pseudo- halogenação na presença de um ácido mineral, meio de diazotização e haleto e pseudo-haleto, ocorrendo as etapas de reação em um vaso de reação individual.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Indeferimento mantido em recurso

#9.2.4

MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.

24/03/2015

RPI 2307

Indeferimento

#9.2

Indefiro o pedido de acordo com o(s) artigo(s) 8 e 11, 8 e 13, art. 25 da LPI

23/12/2014

RPI 2294

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

02/09/2014

RPI 2278

Pedido suspenso — exigência de documentos

#6.6

19/04/2011

RPI 2102

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

27/02/2007

RPI 1886

Monitoramento de patentes

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