Indeferimento mantido em recurso
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.
24/03/2015
RPI 2307
Dados do pedido
Número
PI0416778Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP2004012851 Pedido indeferido em 24/03/2015 e o recurso não mudou a decisão. A invenção não chegou a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 24/03/2015. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Atotech Deutschland GMBH
DE
Inventores
H. B. (pessoa física)
DE
U. (. (pessoa física)
DE
W. D. (pessoa física)
DE
Classificação IPC
Prioridades unionistas
DE
103 54 860.2 · 19/11/2003
Resumo técnico
"BANHO ÁCIDO PARA DEPOSITAR ELETROLITICAMENTE UM DEPÓSITO DE COBRE CONTENDO COMPOSTOS DE FENAZÍNIO MONOMÉRICOS HALOGENADOS OU PSEUDO-HALOGENADOS". A presente invenção refere-se a compostos de fenazínio monoméricos halogenados ou pseudo-halogenados com uma pureza de, pelo menos, 85 moles % e com a fórmula química geral I, caracterizados por R^ 1^, R^ 2^, R^ 4^, R^ 5^, R^ 6^, R^ 7 ^, R7^ 7 ^, R^ 8^, R^ 9^, X e A^ _^ terem os significados denotados nas reivindicações, são utilizados para fabricação de revestimentos de cobre particularmente uniformes e com brilho de espelho que sejam nivelados e dúcteis, assim como é utilizada uma densidade de corrente relativamente alta. Os compostos são preparados pela diazotização de um composto de partida adequado antes da halogenação ou pseudo- halogenação na presença de um ácido mineral, meio de diazotização e haleto e pseudo-haleto, ocorrendo as etapas de reação em um vaso de reação individual.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.
24/03/2015
RPI 2307
#9.2
Indefiro o pedido de acordo com o(s) artigo(s) 8 e 11, 8 e 13, art. 25 da LPI
23/12/2014
RPI 2294
#7.1
02/09/2014
RPI 2278
#6.6
19/04/2011
RPI 2102
#1.3
27/02/2007
RPI 1886
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