COMPOSIÇÃO AQUOSA, ISENTA DE SILICATO, PARA LIMPEZA DE SUBSTRATOS MICROELETRÔNICOS, BEM COMO PROCESSO PARA LIMPEZA DE UM SUBSTRATO MICROELETRÔNICO SEM PRODUZIR QUALQUER CORROSÃO METÁLICA SUBSTANCIAL

Classificação IPC

Prioridades unionistas

Resumo técnico

"COMPOSIÇÃO AQUOSA, ISENTA DE SILICATO, PARA LIMPEZA DE SUBSTRATOS MICROELETRÔNICOS, BEM COMO PROCESSO PARA LIMPEZA DE UM SUBSTRATO MICROELETRÔNICO SEM PRODUZIR QUALQUER CORROSÃO METÁLICA SUBSTANCIAL". A presente invenção refere-se a composições aquosas para limpeza e métodos de utilização das composições de limpeza para a limpeza de substratos microeletrônicos, cujas composições são capazes de limpar essencialmente e completamente esses substratos e não produzem essencialmente corrosão de metal dos elementos de metal de tais substratos. As composições aquosas de limpeza desta invenção têm: (a) água, (b) pelo menos um dos íons de amônio e amônio quaternário, (c) pelo menos um dos íons de hipofosfito (H~ 2~PO~ 2~) e/ou fosfito (HPO~ 3~^ 2-^) As composições de limpeza também podem conter íons de fluoreto. Opcionalmente, a composição pode conter outros componentes tais como solventes orgânicos, agentes de oxidação, agentes tensoativos, inibidores de corrosão e agentes de complexação de metais.