Carta-patente expirada
#21.1
PATENTE EXTINTA EM 18/08/2025
30/12/2025
RPI 2869
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Dado oficial do INPI
USO DE UM AGENTE CONTROLADOR DE REOLOGIA, AGENTE MODIFICADOR DE REOLOGIA, CONCENTRADOS, E, COMPOSIÇÕES COM REOLOGIA MELHORADA
Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · EP2004007597
Dados do pedido
Número
PI0412310Tipo
Patente de Invenção
Depósito
08/07/2004
Publicação
22/08/2006
PCT
EP2004007597 Andamento no INPI
- Depósito08/07/04
- Publicação22/08/06
- Exame
- Deferimento23/06/15
- Concessão18/08/15
- Expirado30/12/25
Carta-patente expirada em 30/12/2025: o prazo de proteção chegou ao fim. A tecnologia está em domínio público e pode ser explorada livremente no Brasil.
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Depositantes e inventores
Depositantes
ALLNEX NETHERLANDS B.V.
NL
NUPLEX RESINS B.V.
NL
Inventores
R. B. (pessoa física)
NL
R. V. (pessoa física)
NL
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
EP
03077152.1 · 08/07/2003
US
60/530,240 · 18/12/2003
Resumo técnico
"USO DE UM AGENTE CONTROLADOR DE REOLOGIA, AGENTE MODIFICADOR DE REOLOGIA, CONCENTRADOS, E, COMPOSIÇÕES COM REOLOGIA MELHORADA". A invenção refere-se ao uso como agente controlador de decaimento (SCA) em composições de revestimento de agentes controladores de reologia obteníveis pela reação de um ou mais poliisocianatos com uma ou mais aminas opticamente ativas ou pela reação de uma ou mais poliaminas com um ou mais isocianatos opticamente ativos. A invenção também se refere aos agentes controladores de reologia obteníveis como descrito acima usando poliaminas ou poliisocianatos específicos. Em adição a invenção refere-se ao uso destes agentes controladores de reologia em várias aplicações.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Alteração de nome deferida
#25.4
02/05/2018
RPI 2469
Concessão da patente
#16.1
18/08/2015
RPI 2328
Deferimento
#9.1
23/06/2015
RPI 2320
Pedido suspenso — exigência de documentos
#6.6
28/04/2015
RPI 2312
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
03/06/2014
RPI 2265
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
22/08/2006
RPI 1859
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