Patente de Invenção COMPOSTO PARTICULADO DE POLIUREIA A2), COMPOSIÇÃO DE RESINA A, COMPOSIÇÃO RETICULÁVEL, PROCESSO PARA REVESTIR UM ARTIGO OU UM SUBSTRATO, E, SUBSTRATO de ALLNEX NETHERLANDS B.V. — IPC C07C 273/18. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.
COMPOSTO PARTICULADO DE POLIUREIA A2), COMPOSIÇÃO DE RESINA A, COMPOSIÇÃO RETICULÁVEL, PROCESSO PARA REVESTIR UM ARTIGO OU UM SUBSTRATO, E, SUBSTRATO. São providos um composto particulado de poliureia a2) para reduzir o brilho de revestimentos, uma composição de resina e uma composição reticulável compreendendo o composto particulado de poliureia, em que o percentual em volume de partículas do composto particulado de poliureia tendo um diâmetro menor que a 2 micrômetros é igual ou menor que 25%, e o percentual em volume de partículas do composto particulado de poliureia tendo um diâmetro maior que 20 micrômetros é igual ou menor que 10%.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
