Republicação - classificação IPC
#15.11
Procedimento automático de reclassificação. A classificação IPC anterior era A61K 7/09.
27/03/2018
RPI 2464
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Dado oficial do INPI
COMPOSIÇÃO COSMÉTICA, KIT, PROCESSO DE MODELAGEM PERMANENTE DE MATÉRIAS QUERATÍNICAS, USO DE UMA AMINA SECUNDÁRIA OU TERCIÁRIA E AGENTE ATIVO DE MODELAGEM PERMANENTE DE FIBRAS QUERATÍNICAS
Arquivada/ExtintaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI0405179Tipo
Patente de Invenção
Depósito
11/11/2004
Publicação
02/08/2005
Andamento no INPI
- Depósito11/11/04
- Publicação02/08/05
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 27/03/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
L'oreal
FR
Inventores
D. L. (pessoa física)
FR
G. M. (pessoa física)
FR
X. R. (pessoa física)
FR
Dados técnicos
Prioridades unionistas
FR
0350854 · 18/11/2003
Resumo técnico
"COMPOSIÇÃO COSMÉTICA, KIT, PROCESSO DE MODELAGEM PERMANENTE DE MATÉRIAS QUERATÍNICAS, USO DE UMA AMINA SECUNDÁRIA OU TERCIÁRIA E AGENTE ATIVO DE MODELAGEM PERMANENTE DE FIBRAS QUERATÍNICAS". A presente invenção tem por objeto uma composição cosmética pronta para o uso de modelagem permanente das fibras queratínicas que contém como agente ativo de modelagem permanente uma amina secundária ou terciária. Ela trata também de um kit que contém compartimentos que devem ser postos em contato para formar a composição pronta para o uso, bem como de um processo que utiliza esta composição.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2129 de 25/10/2011.
08/05/2012
RPI 2157
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
referente á 7ª anui dade.
25/10/2011
RPI 2129
Publicação do pedido de patente
#3.1
02/08/2005
RPI 1804
Pedido de patente depositado
#2.1
11/01/2005
RPI 1775
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