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Dado oficial do INPI

ELETRODO POROSO DE DIAMANTE SINTÉTICO A PARTIR DE SUBSTRATOS DE CARBONO VÍTREO

ConcedidaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0402061

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

17/05/2004

Publicação

03/01/2006

Andamento no INPI

  1. Depósito17/05/04
  2. Publicação03/01/06
  3. Exame
  4. Deferimento23/01/18
  5. Concessão13/03/18
  6. Em vigor17/05/24

Patente concedida em 13/03/2018 e em vigor até 17/05/2024. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:17/05/2024

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Última movimentação publicada pelo INPI: 13/03/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Centro Técnico Aeroespacial (CTA)

SP, BR

Departamento de Ciência e Tecnologia Aeroespacial (DCTA)

SP, BR

Instituto de Aeronáutica e Espaço - IAE

SP, BR

Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais - INPE

SP, BR

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Inventores

E. C. (pessoa física)

BR

M. R. (pessoa física)

BR

N. F. (pessoa física)

BR

V. A. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

"MÉTODO PARA PRODUÇÃO DE ELETRODO POROSO DE DIAMANTE SINTÉTICO A PARTIR DE SUBSTRATOS DE CARBONO VÍTREO". Compreendendo dois substratos carbonosos condutores, o primeiro do tipo carbono vítreo reticulado-CVR, poroso apresentando porções externa e interna, com ou sem membrana de interligação, chamado eletrodo tridimensional. O segundo do tipo carbono vítreo monolítico, CVM, ambos revestidos por um filme de diamante condutor, como uma camada diamantífera contínua, dopado com boro, obtido pela técnica de crescimento de CVD, dimensionado de modo a produzir um substancial aumento da área superficial, controlando a rugosidade, porosidade e o nível de dopagem do filme. Esta patente refere-se ao eletrodo acima e ao processo de obtenção deste para uso em aplicações eletroquímicas.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

13/03/2018

RPI 2462

100

Recorrente: O depositante. @ Despacho: Recurso conhecido e provido. Reformada a decisão recorrida e deferido o pedido. Desta data corre o prazo de 60 (sessenta) dias para o pagamento da retribuição para expedição da Carta-Patente. [100]

23/01/2018

RPI 2455

121

Recorrente: O depositante.@Despacho: Cumpra as exigências do parecer técnico no prazo de 60(sessenta) dias desta publicação. [121]

12/09/2017

RPI 2436

Petição de recurso

#12.2

25/08/2015

RPI 2329

Indeferimento

#9.2

Indefiro o pedido de acordo com o(s) artigo(s) da LPI

08/10/2013

RPI 2231

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

12/03/2013

RPI 2201

Transferência deferida

#25.1

Transferido de: Departamento de Ciência e Tecnologia Aeroespacial (DCTA)

27/12/2011

RPI 2138

Alteração de nome deferida

#25.4

Nome Alterado de: Centro Técnico Aeroespacial (CTA)

13/12/2011

RPI 2136

Publicação do pedido de patente

#3.1

03/01/2006

RPI 1826

Pedido de patente depositado

#2.1

13/10/2004

RPI 1762

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