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Dado oficial do INPI

COMPOSIÇÃO COSMÉTICA, ESMALTE PARA AS UNHAS, PRODUTO PARA A MAQUIAGEM DOS LÁBIOS, RÍMEL, BASE PARA MAQUIAGEM, UTILIZAÇÃO DE UM AGENTE DE COLORAÇÃO GONIOCROMÁTICO NÃO OPACO EM ASSOCIAÇÃO COM UM PIGMENTO DIFRATANTE, E, PROCESSO DE MAQUIAGEM DE UM SUPORTE ESCOLHIDO ENTRE A PELE, OS LÁBIOS E OS FÂNEROS

Arquivada/ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0401759

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

14/05/2004

Publicação

25/01/2005

Andamento no INPI

  1. Depósito14/05/04
  2. Publicação25/01/05
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 27/03/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

L'Oreal

FR

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Inventores

F. D. (pessoa física)

FR

G. C. (pessoa física)

FR

Dados técnicos

Prioridades unionistas

FR

03 05932 · 16/05/2003

Resumo técnico

"COMPOSIÇÃO COSMÉTICA, ESMALTE PARA AS UNHAS, PRODUTO PARA A MAQUIAGEM DOS LÁBIOS, RÍMEL, BASE PARA MAQUIAGEM, UTILIZAÇÃO DE UM AGENTE DE COLORAÇÃO GONIOCROMÁTICO NÃO OPACO EM ASSOCIAÇÃO COM UM PIGMENTO DIFRATANTE, E, PROCESSO DE MAQUIAGEM DE UM SUPORTE ESCOLHIDO ENTRE A PELE, OS LÁBIOS E OS FÂNEROS". A presente invenção refere-se a uma composição cosmética, caracterizada pelo fato de que ela apresenta, para uma iluminação incidente a +45 , uma variação Dh do ângulo de aparência refletida de pelo menos 50 , melhor de pelo menos 70 , para uma variação do ângulo de observação que vai de -10 a +30 e um desvio ( a *^ 2^ + b *^ 2^)^ 1/2^ de pelo menos 5 entre os ângulos de observação -30 e -70 .

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Republicação - classificação IPC

#15.11

Procedimento automático de reclassificação. As classificações IPC anteriores eram: A61K 7/021; A61K 7/025; A61K 7/032; A61K 7/043.

27/03/2018

RPI 2464

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2129 de 25/10/2011.

17/04/2012

RPI 2154

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente 7a., anuidade(s).

25/10/2011

RPI 2129

Publicação do pedido de patente

#3.1

25/01/2005

RPI 1777

Pedido de patente depositado

#2.1

10/08/2004

RPI 1753

Monitoramento de patentes

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