DISPOSIÇÃO PARA IMPLANTES PORTADORES DE SUBSTÂNCIA OU SUBSTÂNCIAS ESTIMULADORAS DE CRESCIMENTO E RESPECTIVO IMPLANTE

Classificação IPC

Prioridades unionistas

Resumo técnico

"DISPOSIÇÃO PARA IMPLANTES PORTADORES DE SUBSTÂNCIA OU SUBSTÂNCIAS ESTIMULADORAS DE CRESCIMENTO E RESPECTIVO IMPLANTE". A presente invenção relata um implante portador de substância(s) estimuladora(s) de crescimento, aqui chamada de -GSS, que pode(m) ser liberada(s) quando o implante se encontra disposto no furo do osso maxilar. A liberação ocorre em interação com o fluido do corpo secretado contendo células, de modo a formar um novo osso ao longo do implante. O implante é disposto com uma superfície externa que pode compreender as partes externas de uma espira ou pode consistir de ser portador de superfícies paralelas à parede interna do furo do osso maxilar. As primeiras porções da superfície externa apresentam primeiros diâmetros ou raios e as segundas porções apresentam segundos diâmetros ou raios menores que os primeiros diâmetros ou raios. O implante se apóia ou coopera com parede do furo através das primeiras porções e das segundas porções e junto com a parede do furo forma um ou mais espaços fechados, dentro dos quais o fluido do corpo pode penetrar e as GSS podem ser liberadas. O implante pode, alternativamente, ser projetado com um formato ou formatos substancialmente correspondentes à(s) configuração(ões) da raiz do dente. A nova formação óssea, desse modo, é tornada efetiva e uma grande estabilidade pode ser obtida para o lmplante em sua posição no osso maxilar.