Indeferimento mantido em recurso
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.
14/02/2018
RPI 2458
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Dado oficial do INPI
PROCESSO PARA A SÍNTESE INDUSTRIAL DO METIL DIÉSTER DO ÁCIDO 5-AMINO-3-CARBOXIMETIL-4-CIANO-2-TIOFENO CARBOXÍLICO, E APLICAÇÃO PARA A SÍNTESE DOS SAIS BIVALENTES DO ÁCIDO RANÉLICO E DOS HIDRATOS DO MESMO
IndeferidaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI0304194Tipo
Patente de Invenção
Depósito
22/09/2003
Publicação
08/09/2004
Andamento no INPI
- Depósito22/09/03
- Publicação08/09/04
- Exame
- Indeferido14/02/18
- Concessão
- Em vigor
Pedido indeferido em 14/02/2018 e o recurso não mudou a decisão. A invenção não chegou a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 14/02/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
L. S. (pessoa física)
FR
Inventores
J. L. (pessoa física)
FR
L. W. (pessoa física)
FR
P. L. (pessoa física)
FR
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
FR
02/11764 · 24/09/2002
Resumo técnico
"PROCESSO PARA A SÍNTESE INDUSTRIAL DO METIL DIÉSTER DO ÁCIDO 5-AMINO-3-CARBOXIMETIL-4-CIANO-2-TIOFENO CARBOXÍLICO, E APLICAÇÃO PARA A SÍNTESE DOS SAIS BIVALENTES DO ÁCIDO RANÉLICO E DOS HIDRATOS DO MESMO". A presente invenção refere-se a um processo para a síntese industrial do composto da fórmula (I): Aplicação à síntese dos sais bivalentes do ácido ranélico e de modo mais específico do ranelato de estrôncio e dos sais do mesmo.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Indeferimento
#9.2
28/11/2017
RPI 2447
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
08/08/2017
RPI 2431
Não anuência — art. 229 da LPI
#7.5
NOTIFICAÇÃO DE ANUÊNCIA RELACIONADA COM O ART 229 DA LPI
26/05/2015
RPI 2316
Ciência (anuência ANVISA - art. 229-C)
#7.4
21/11/2012
RPI 2185
Pedido suspenso — exigência de documentos
#6.6
09/03/2011
RPI 2096
Publicação do pedido de patente
#3.1
08/09/2004
RPI 1757
Pedido de patente depositado
#2.1
03/02/2004
RPI 1726
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