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Dado oficial do INPI

PROCESSO PARA A OBTENÇÃO E SEPARAÇÃO DE TÂNTALO E NIÓBIO A PARTIR DE MATÉRIAS-PRIMAS POBRES EM TÂNTALO

ArquivadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0304127

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

02/09/2003

Publicação

08/09/2004

Andamento no INPI

  1. Depósito02/09/03
  2. Publicação08/09/04
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 02/09/2003, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 04/12/2007. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

H.C. Starck GMBH.

DE

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

U. B. (pessoa física)

DE

W. B. (pessoa física)

DE

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

DE

102 40 697.9 · 04/09/2002

Resumo técnico

"PROCESSO PARA A OBTENÇÃO E SEPARAÇÃO DE TÂNTALO E NIÓBIO A PARTIR DE MATÉRIAS-PRIMAS POBRES EM TÂNTALO". Processo para a obtenção dos teores de tântalo e nióbio a partir de matérias-primas, que contêm Ta~ 2~O~ 5~ e Nb~ 2~O~ 5~ em uma razão de peso de Ta~ 2~O~ 5~ para Nb~ 2~O~ 5~ de menos de 2 : 3, mediante desintegração da matéria-prima com ácido fluorídrico e extração da solução fluorídrica com um solvente orgânico insolúvel na água, sendo que a solução fluorídrica a ser extraída apresenta uma normalidade de no máximo 15 N e o refinado da extração é termicamente decomposto sob recuperação de HF ou é neutralizado pela adição de óxido de cálcio e/ou hidróxido de cálcio e o sólido contendo nióbio assim formado é reduzido em ferro-nióbio através de estágios de processos pirometalúrgicos.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

04/12/2007

RPI 1926

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

08/05/2007

RPI 1896

Publicação do pedido de patente

#3.1

08/09/2004

RPI 1757

Pedido de patente depositado

#2.1

27/01/2004

RPI 1725

Monitoramento de patentes

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