Arquivamento - Art. 17 §2° da LPI
#11.11
Referência: Prioridade interna do PI 0405842-9.
26/06/2007
RPI 1903
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Dado oficial do INPI
COMPOSIÇÃO FARMACÊUTICA ESTABILIZADA DE COMPOSTO FLÚOR-ÉTER E MÉTODO PARA INIBIR A DEGRADAÇÃO DE COMPOSTO FLÚOR-ÉTER. USO DE AGENTE ESTABILIZANTE PARA INIBIR A DEGRADAÇÃO DE COMPOSTO FLÚOR ÉTER
ArquivadaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI0303489Tipo
Patente de Invenção
Depósito
10/09/2003
Publicação
05/07/2005
Andamento no INPI
- Arquivado10/09/03
- Publicação
- Exame
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado pelo INPI. O processo foi encerrado sem chegar a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 26/06/2007. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Cristália Produtos Químicos Farmacêuticos Ltda
SP, BR
Inventores
E. R. (pessoa física)
BR
J. M. (pessoa física)
BR
M. B. (pessoa física)
BR
O. P. (pessoa física)
BR
S. R. (pessoa física)
BR
V. R. (pessoa física)
BR
Dados técnicos
Classificação IPC
Resumo técnico
"COMPOSIÇÃO FARMACÊUTICA ESTABILIZADA DE COMPOSTO FLÚOR-ÉTER E MÉTODO PARA INIBIR A DEGRADAÇÃO DE COMPOSTO FLÚOR-ÉTER. USO DE AGENTE ESTABILIZANTE PARA INIBIR A DEGRADAÇÃO DE COMPOSTO FLÚOR ÉTER". A presente invenção tem como objetivo a estabilização de um composto flúor-éter contra a degradação proporcionada por ácidos de Lewis. Os estabilizantes empregados são selecionados dentre compostos farmacêuticos apropriados e são utilizados no preparo de composições farmacêuticas estabilizadas de um composto flúor-éter. São também descritos método de inibir a degradação de um composto flúor-éter e uso de agentes estabilizantes para inibir a degradação de um composto flúor-éter.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Publicação do pedido de patente
#3.1
05/07/2005
RPI 1800
6.7
Baseado no art. 216 § 1º da LPI, apresente cópia autenticada da procuração para que esta seja aceita.
31/05/2005
RPI 1795
Pedido de patente depositado
#2.1
23/12/2003
RPI 1720
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