Dado oficial do INPI

RECIPIENTE PARA RECEBER OU FUNDIR SILÍCIO EM FUSÃO E MÉTODO DE PRODUZIR O MESMO

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · EP2002013850

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Dados do pedido

Número

PI0215961

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

06/12/2002

Publicação

13/09/2005

PCT

EP2002013850

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Andamento no INPI

Depósito06/12/02
Publicação13/09/05
Arquivado
Deferimento
Concessão
Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 18/05/2010. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Vesuvius France S.A.

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Inventores

F. C. (pessoa física)

K. T. (pessoa física)

K. S. (pessoa física)

Y. K. (pessoa física)

Dados técnicos

Classificação IPC

C03B 11/00 C03B 15/10 C03B 35/00 C04B 41/87

Resumo técnico

"RECIPIENTE PARA RECEBER OU FUNDIR SILÍCIO EM FUSÃO E MÉTODO DE PRODUZIR O MESMO". A invenção refere-se a um recipiente para conter um banho de silício em fusão, o qual pode impedir de maneira eficaz a contaminação de uma solução de banho de silício em fusão e ter excelentes sinterabilidade, resistência mecânica e produtividade. O interior do recipiente é formado por um revestimento pulverizado por pulverização de um thennet compósito de silício, o qual consiste em silício metálico (MSi), nitreto de silício (Si~ 3~N~ 4~) e óxido de silício (SiO~ 2~).