Republicação - classificação IPC
#15.11
Procedimento automático de reclassificação. A classificação IPC anterior era A23G 3/30.
27/03/2018
RPI 2464
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Dado oficial do INPI
GOMA DE MASCAR DE BAIXA UMIDADE
Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · DK2002000624
Dados do pedido
Número
PI0215889Tipo
Patente de Invenção
Depósito
24/09/2002
Publicação
26/07/2005
PCT
DK2002000624 Andamento no INPI
- Depósito24/09/02
- Publicação26/07/05
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 27/03/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Gumlink A/S
DK
Inventores
A. L. (pessoa física)
DK
W. H. (pessoa física)
DK
Dados técnicos
Resumo técnico
"GOMA DE MASCAR DE BAIXA UMIDADE". A presente invenção se refere a uma goma de mascar compreendendo pelo menos um polímero biodegradável e ingredientes de goma de mascar, a referida goma de mascar contendo menos de cerca de 2% do peso de água da goma de mascar. De acordo com a invenção, a goma de mascar biodegradável tendo baixo teor de umidade foi produzida em combinação com uma textura inicial aceitável.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2108 de 31/05/2011.
16/11/2011
RPI 2132
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
referente a(s) 8ª anuidade(s).
31/05/2011
RPI 2108
15.7
Não conhecida a petição nº 020080132173/RJ de 17/10/2008 em virtude do exposto no Art. 219 inciso II da LPI.
01/12/2009
RPI 2030
6.7
Para que seja aceita a petição de desistência nº 020080132173 de 17/10/2008 apresente procuração autenticada que outorgue expressamente poderes para desistir.
30/12/2008
RPI 1982
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
26/07/2005
RPI 1803
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