Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2064 de 27/07/2010.
23/08/2011
RPI 2120
Dados do pedido
Número
PI0214354Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2002037465 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 23/08/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
A. C. (pessoa física)
US
Inventores
J. S. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
60/332,108 · 21/11/2001
Resumo técnico
"DISPOSITIVO DE LIBERAÇÃO OSMÓTICO TENDO UMA VÁLVULA DE DUAS VIAS E UM CANAL DE ESCOAMENTO DINAMICAMENTE AUTO-AJUSTÁVEL". A patente de invenção refere-se a um sistema de liberação atuado osmoticamente, implantável tendo uma válvula de duas vias, dinâmica e um canal de escoamento de fluido de geometria variável, auto-ajustável. Na medida em que a pressão dentro do sistema de liberação de agente sobe, o canal de fluido se estreita, restringindo, desse modo, o escoamento. Em pressões excepcionalmente altas, a válvula pode ser projetada para fechar completamente no orifício ou na extremidade de liberação, ou pode proporcionar um caminho de vazamento mínimo, de modo que um escoamento de fluido máximo não é nunca excedido. A uma pressão zero ou muito baixa, a válvula vai fechar completamente na extremidade do reservatório de agente benéfico, isolando a formulação de agente benéfico da infiltração de fluido externa e eliminando, desse modo, a difusão de fluido externo para a formulação de agente benéfico.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2064 de 27/07/2010.
23/08/2011
RPI 2120
#8.6
Referente a 7ª anuidade.
27/07/2010
RPI 2064
#1.3.1
Referente à RPI 1783 de 08/03/2005, quanto ao ítem (86).
17/05/2005
RPI 1793
#1.3.1
Referente à RPI 1765 de 03/11/2004, quanto ao ítem (86).
08/03/2005
RPI 1783
#1.3
03/11/2004
RPI 1765
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