Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho publicado na RPI 2034 de 29/12/2009.
05/10/2010
RPI 2074
Dados do pedido
Número
PI0213800Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2002034683 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 05/10/2010. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Kimberly-Clark Worldwide, INC.
US
Inventores
L. J. (pessoa física)
US
P. S. (pessoa física)
US
T. P. (pessoa física)
US
V. S. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
09/990.686 · 16/11/2001
US
09/991.185 · 16/11/2001
Resumo técnico
"APARELHO E MÉTODO PARA A PRODUÇÃO DE TOPOGRAFIA E MATERIAIS TENDO TOPOGRAFIA". A presente invenção se refere a um aparelho para o posicionamento discreto e alinhado de um produto químico. O aparelho tem (i) pelo menos uma válvula solenóide incluindo um orifício; (ii) pelo menos uma fonte de produto químico estando em comunicação com pelo menos uma válvula, e sendo capaz de comunicação de pelo menos um produto químico para pelo menos uma válvula solenóide; e (iii) um elemento de aquecimento; onde o aquecimento está posicionado próximo de pelo menos um produto químico, e onde o elemento de aquecimento permite que o aparelho processe materiais com mudança de fase. Uma segunda modalidade da presente invenção é dirigida a um dispositivo de impressão com jato de tinta para o posicionamento alinhado de líquidos com mudança de fase. A presente invenção também é dirigida a um método para o posicionamento de um ou mais produtos químicos de uma forma discreta e alinhada. A presente invenção também se refere a um material que tem características de manipulação de fluido e, geralmente, inclui um substrato que tem pelo menos uma primeira superfície, e um ou mais produtos químicos sendo aplicados à primeira superfície do substrato em gotículas discretas, onde uma ou mais gotículas formam domínios discretos no substrato. Os produtos químicos aplicados ao substrato podem penetrar no substrato até graus variáveis, onde os graus variáveis de penetração de produto químico produzem materiais que têm várias topografias. A topografia ou as topografias pode criar barreiras de fluido, separação de pele ou, de outra forma, resultar em benefícios à saúde da pele. Uma segunda modalidade de um material da invenção e dirigida a um artigo absorvente que tem um ou mais materiais com mudança de fase aplicados a ele. Uma terceira modalidade de um material da invenção é dirigida a um compósito que inclui um substrato e um ou mais produtos químicos, onde os produtos químicos são aplicados ao substrato de modo a se produzir um substrato que tem pontos de ligação posicionados discretamente e alinha
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho publicado na RPI 2034 de 29/12/2009.
05/10/2010
RPI 2074
#8.6
Referente a 5º, 6º e 7º anuidade.
29/12/2009
RPI 2034
#1.3
04/01/2005
RPI 1774
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