Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
20/11/2007
RPI 1924
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Dado oficial do INPI
PROCESSO PARA APERFEIÇOAMENTO DA RESISTÊNCIA CONTRA CHUVAS DE AGENTES DE PROTEÇÃO DE PLANTAS
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · EP2002006984
Dados do pedido
Número
PI0210779Tipo
Patente de Invenção
Depósito
25/06/2002
Publicação
20/07/2004
PCT
EP2002006984 Andamento no INPI
- Depósito25/06/02
- Publicação20/07/04
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 25/06/2002, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 20/11/2007. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Cognis Deutschland GmbH & Co. KG
DE
Inventores
C. G. (pessoa física)
DE
H. M. (pessoa física)
DE
H. W. (pessoa física)
DE
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
DE
101 32 459.6 · 04/07/2001
Resumo técnico
"PROCESSO PARA APERFEIÇOAMENTO DA RESISTÊNCIA CONTRA CHUVAS DE AGENTES DE PROTEÇÃO DE PLANTAS". A presente invenção refere-se ao emprego de compostos de fórmula geral (I), (RO-(C~ 2~H~ 4~O)~ n~(C~ 3~H~ 6~O)~ m~-R , na qual RO representa um radical álcool, escolhido do grupo dos álcoois monovalentes ramificados ou lineares, saturados ou insaturados com de 1 até 6 átomos de carbono ou de polióis, com de 2 até 12 átomos de C e de 2 até 6 grupos hidroxila e R representa hidrogênio e/ou um grupo éster -CO-R", na qual R" representa um radical alquila ramificado ou linear, saturado ou insaturado, com de 5 até 29 átomos de C, n representa um número inteiro de 1 até 50, e m é nulo ou um número entre 1 e 20, em agentes agroquímicos, aumenta a resistência contra chuva deste tipo de agente quando aplicado em superfícies de plantas.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
06/02/2007
RPI 1883
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
20/07/2004
RPI 1750
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