Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2259 de 22/04/2014.
12/08/2014
RPI 2275
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Dado oficial do INPI
PROCESSO PARA A SÍNTESE DE MISTURAS DE METANO DIFENIL DIAMINA E SEUS HOMÓLOGOS SUPERIORES COM UMA DISTRIBUIÇÃO ISOMÉRICA CONTROLADA
Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · EP2002004714
Dados do pedido
Número
PI0209344Tipo
Patente de Invenção
Depósito
29/04/2002
Publicação
15/06/2004
PCT
EP2002004714 Andamento no INPI
- Depósito29/04/02
- Publicação15/06/04
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 12/08/2014. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Dow Global Technologies INC.
US
Inventores
A. A. (pessoa física)
IT
A. B. (pessoa física)
IT
C. P. (pessoa física)
IT
O. F. (pessoa física)
IT
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
IT
MI01A000880 · 27/04/2001
Resumo técnico
"PROCESSO PARA A SÍNTESE DE MISTURAS DE METANO DIFENIL DIAMINA E SEUS HOMÓLOGOS SUPERIORES COM UMA DISTRIBUIÇÃO ISOMÉRICA CONTROLADA". Processo para preparar metano difenil diamina (MDA) ou uma mistura de metano difenil diamina (MDA) e seus homólogos superiores com uma distribuição isomérica controlada usando um zeólito modificado tendo "seletividade de forma". A mistura contém compostos tendo a formula geral (I) seguinte: onde R representa um átomo de hidrogênio ou um grupo (iso)alquila de C1 até C8, um grupo cicloalquila de C4 até C10 ou um grupo aromático de C6 até C12 e n é um número inteiro maior ou igual a um de modo a dar uma funcionalidade de 2 até 6.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente à 12ª anuidade.
22/04/2014
RPI 2259
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
13/12/2011
RPI 2136
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
15/06/2004
RPI 1745
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