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Dado oficial do INPI

PROCESSO PARA RETIRADA DE MONÔMERO RESIDUAL COM UM GRUPO FUNCIONAL EPÓXIDO EM UMA COMPOSIÇÃO TERMOPLÁSTICA

Arquivada/ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0207601

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

11/10/2002

Publicação

25/02/2004

Andamento no INPI

  1. Depósito11/10/02
  2. Publicação25/02/04
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 08/02/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Atofina

FR

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Inventores

T. S. (pessoa física)

FR

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

FR

01.13106 · 11/10/2001

Resumo técnico

"PROCESSO PARA RETIRADA DE MONÔMERO RESIDUAL COM UM GRUPO FUNCIONAL EPÓXIDO EM UMA COMPOSIÇÃO TERMOPLÁSTICA". A invenção relaciona-se a um processo para capturar um monômero livre que não foi reagido por copolimerização ou por graftização compreendendo pelo menos um grupo funcional epóxido em uma composição termoplástica baseada em etileno e/ou em propileno e baseada em pelo menos um monômero compreendendo pelo menos um grupo funcional epóxido, o referido processo compreendendo os seguintes estágios: - preparação da referida composição termoplástica; - adição de uma quantidade suficiente de um aditivo de captura sólido exibindo, em sua superfície, locais com uma natureza básica dentro do significado de Lewis ou Brönsted. O aditivo de captura é um zeólito poroso, o diâmetro dos poros deste está entre 5 a 15 angströms, preferivelmente, entre 6 e 13 angströms. A invenção também se relaciona à composição obtida por tal processo e às combinações compreendendo tal composição.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 da RPI 2029 de 24/11/2009.

08/02/2011

RPI 2092

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente a 4º, 5º, 6º e 7º anuidade.

24/11/2009

RPI 2029

Publicação do pedido de patente

#3.1

25/02/2004

RPI 1729

6.7

Baseado no art. 216 § 1º da LPI, apresente cópia autenticada da procuração para que esta seja aceita.

02/12/2003

RPI 1717

Pedido de patente depositado

#2.1

30/09/2003

RPI 1708

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