Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 da RPI 2029 de 24/11/2009.
08/02/2011
RPI 2092
Dados do pedido
Número
PI0207601Tipo
Depósito
Publicação
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 08/02/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Atofina
FR
Inventores
T. S. (pessoa física)
FR
Classificação IPC
Prioridades unionistas
FR
01.13106 · 11/10/2001
Resumo técnico
"PROCESSO PARA RETIRADA DE MONÔMERO RESIDUAL COM UM GRUPO FUNCIONAL EPÓXIDO EM UMA COMPOSIÇÃO TERMOPLÁSTICA". A invenção relaciona-se a um processo para capturar um monômero livre que não foi reagido por copolimerização ou por graftização compreendendo pelo menos um grupo funcional epóxido em uma composição termoplástica baseada em etileno e/ou em propileno e baseada em pelo menos um monômero compreendendo pelo menos um grupo funcional epóxido, o referido processo compreendendo os seguintes estágios: - preparação da referida composição termoplástica; - adição de uma quantidade suficiente de um aditivo de captura sólido exibindo, em sua superfície, locais com uma natureza básica dentro do significado de Lewis ou Brönsted. O aditivo de captura é um zeólito poroso, o diâmetro dos poros deste está entre 5 a 15 angströms, preferivelmente, entre 6 e 13 angströms. A invenção também se relaciona à composição obtida por tal processo e às combinações compreendendo tal composição.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 da RPI 2029 de 24/11/2009.
08/02/2011
RPI 2092
#8.6
Referente a 4º, 5º, 6º e 7º anuidade.
24/11/2009
RPI 2029
#3.1
25/02/2004
RPI 1729
Baseado no art. 216 § 1º da LPI, apresente cópia autenticada da procuração para que esta seja aceita.
02/12/2003
RPI 1717
#2.1
30/09/2003
RPI 1708
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