Carta-patente expirada
#21.1
PATENTE EXTINTA EM 10/12/2023
26/12/2023
RPI 2764
Dados do pedido
Número
PI0206696Tipo
Depósito
Publicação
PCT
JP2002013161 Carta-patente expirada em 26/12/2023: o prazo de proteção chegou ao fim. A tecnologia está em domínio público e pode ser explorada livremente no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 26/12/2023. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Nippon Shokubai CO., LTD.
JP
Inventores
H. F. (pessoa física)
JP
K. S. (pessoa física)
JP
K. I. (pessoa física)
JP
S. N. (pessoa física)
JP
Y. N. (pessoa física)
JP
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
2001-385746 · 19/12/2001
Resumo técnico
"COMPOSIÇÃO DE ÁCIDO ACRÍLICO E SEU PROCESSO DE PRODUÇÃO, E PROCESSO PARA A PRODUÇÃO DE RESINA DE ABSORÇÃO DE ÁGUA UTILIZANDO ESSA COMPOSIÇÃO DE ÁCIDO ACRÍLICO, E RESINA DE ABSORÇÃO DE ÁGUA". Para produzir uma resina que absorve água barata e com alta produtividade, da qual: o teor de monômero residual e o teor extraível de água são ambos baixos, e as propriedades são elevadas e a capacidade de coloração é baixa; é fornecido um processo para a produção de uma resina que absorva água, o qual é um processo para a produção de uma resina que absorva água reticulada por polimerização de um componente de monômero incluindo ácido acrílico e/ou seu sal em uma grande proporção em que o ácido acrílico é um produto obtido por oxidação de fase gasosa catalítica de propileno e/ou propano, com o processo sendo caracterizado por compreender as etapas de: preparar o componente de monômero de uma composição de ácido acrílico que inclui o ácido acrílico não neutralizado e um metoxifenol e tem um teor de metoxifenol de 10 a 160 ppm em peso (com base no ácido acrílico não neutralizado); e então realizar polimerização radical e/ou ultravioleta do componente de monômero resultante.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#21.1
PATENTE EXTINTA EM 10/12/2023
26/12/2023
RPI 2764
#16.1
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#9.1
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#6.1
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#7.1
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#7.1
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