Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
25/04/2006
RPI 1842
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Dado oficial do INPI
SUBSTRATO E/OU SUPERFÍCIE DE SUPORTE PARA PROCESSAMENTO
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US2001030206
Dados do pedido
Número
PI0114309Tipo
Patente de Invenção
Depósito
27/09/2001
Publicação
14/10/2003
PCT
US2001030206 Andamento no INPI
- Depósito27/09/01
- Publicação14/10/03
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 27/09/2001, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 25/04/2006. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
S.C. Johnson Home Storage, INC.
US
Inventores
K. M. (pessoa física)
US
V. K. (pessoa física)
US
W. L. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
09/677.663 · 02/10/2000
Resumo técnico
"SUBSTRATO E/OU SUPERFÍCIE DE SUPORTE PARA PROCESSAMENTO". Um substrato para processamento compreende um primeiro material com uma superfície permeável a líquido, um segundo material disposto adjacente ao primeiro material e com uma parte absorvente de líquido e um terceiro material disposto adjacente ao segundo material e com uma superfície impermeável a líquido.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
04/10/2005
RPI 1813
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
14/10/2003
RPI 1710
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