Carta-patente expirada
#21.1
Patente extinta em 21/09/2021
09/05/2023
RPI 2731
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Dado oficial do INPI
PROCESSO E APARELHO PARA A REDUÇÃO DE RESÍDUO ORGÂNICO, DISPOSITIVO DE VEDAÇÃO E CONJUNTO DE MAGNETRON
Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · CA2001001346
Dados do pedido
Número
PI0114224Tipo
Patente de Invenção
Depósito
21/09/2001
Publicação
29/07/2003
PCT
CA2001001346 Andamento no INPI
- Depósito21/09/01
- Publicação29/07/03
- Exame
- Deferimento08/04/14
- Concessão22/07/14
- Expirado09/05/23
Carta-patente expirada em 09/05/2023: o prazo de proteção chegou ao fim. A tecnologia está em domínio público e pode ser explorada livremente no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 09/05/2023. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
ENVIRONMENTAL WASTE INTERNACIONAL INC.
CA
Inventores
D. N. (pessoa física)
CA
M. G. (pessoa física)
US
R. R. (pessoa física)
CA
S. K. (pessoa física)
CA
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
CA
2,320,455 · 22/09/2000
Resumo técnico
"PROCESSO E APARELHO PARA A REDUÇÃO DE RESÍDUO ORGÂNICO, DISPOSITIVO DE VEDAÇÃO E CONJUNTO DE MAGNETRON". Trata-se de um aparelho (2) para a redução de resíduo orgânico (4), sendo que o aparelho (2) compreende um transportador (32, 40, 128) para mover o resíduo (4) dentro do aparelho (2). Também é apresentada uma câmara (10) que compreende um dispositivo de pesagem para determinar um peso do resíduo, e um dispositivo de purga para purgar o oxigênio do aparelho. Uma segunda câmara (12) compreende um dispositivo de redução para tratar, esterilizar e reduzir o resíduo por um primeiro período de tempo, e uma terceira câmara compreende um dispositivo de resfriamento para resfriar o resíduo reduzido e esterilizado por um segundo período de tempo. Também é apresentado um dispositivo de vedação (18, 34, 36) para vedar cada uma da primeira câmara (10), segunda câmara (12) e terceira câmara (14) das outras câmaras e do exterior do aparelho quando em uso.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
16.3
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 21/09/2001, observadas as condições legais. Patente concedida conforme ADI 5.529/DF, que determina a alteração do prazo de concessão
22/06/2021
RPI 2633
Concessão da patente
#16.1
22/07/2014
RPI 2272
Deferimento
#9.1
08/04/2014
RPI 2257
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
13/08/2013
RPI 2223
Pedido suspenso — exigência de documentos
#6.6
11/10/2011
RPI 2127
Republicação - classificação IPC
#15.11
13/10/2009
RPI 2023
8.7
07/04/2009
RPI 1996
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente à 6ª anuidade.
12/08/2008
RPI 1962
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
29/07/2003
RPI 1699
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