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Dado oficial do INPI

PROCESSO E DISPOSITIVO PARA REGULAGEM DA CONCENTRAÇÃO DE ÍONS METÁLICOS EM UM LÍQUIDO ELETROLÍTICO.

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · DE2001000748

Dados do pedido

Número

PI0109167

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

23/02/2001

Publicação

26/11/2002

PCT

DE2001000748

Andamento no INPI

  1. Depósito23/02/01
  2. Publicação26/11/02
  3. Exame
  4. Deferimento28/09/10
  5. Concessão14/06/11
  6. Expirado29/06/21

Carta-patente expirada em 29/06/2021: o prazo de proteção chegou ao fim. A tecnologia está em domínio público e pode ser explorada livremente no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 29/06/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Atotech Deutschland GmbH

DE

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Inventores

K. M. (pessoa física)

DE

S. L. (pessoa física)

DE

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

DE

100 13 339.8 · 17/03/2000

Resumo técnico

"PROCESSO E DISPOSITIVO PARA REGULAGEM DA CONCENTRAÇÃO DE ÍONS METÁLICOS EM UM LÍQUIDO ELETROLÍTICO, BEM COMO APLICAÇÃO DO PROCESSO E USO DO DISPOSITIVO". Para regulagem da concentração de íons metálicos em um líquido eletrolítico, que serve para a precipitação eletrolítica de metal e que contém, adicionalmente, materiais de um sistema de redox eletroquimicamente reversível, é conhecido guiar pelo menos uma parte do líquido eletrolítico por uma célula auxiliar 2, que apresenta um ânodo auxiliar 20 não solúvel e pelo menos um cátodo auxiliar 30, entre os quais é produzido um fluxo de corrente por aplicação de uma tensão. Desse modo, são reduzidas quantidades excessivas dos materiais oxidados do sistema de redox no cátodo auxiliar 30 e, desse modo, reduzida a formação de íons do metal a ser precipitado. Partindo disso, a presente invenção consiste no fato de usar como cátodo auxiliar fragmentos do metal 30 a ser precipitado.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Carta-patente expirada

#21.1

PATENTE EXTINTA EM 14.06.2021

29/06/2021

RPI 2634

Concessão da patente

#16.1

14/06/2011

RPI 2110

Deferimento

#9.1

28/09/2010

RPI 2073

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

23/03/2010

RPI 2046

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

26/11/2002

RPI 1664

Monitoramento de patentes

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