Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2029 de 24/11/2009.
09/03/2011
RPI 2096
Dados do pedido
Número
PI0014162Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2000023911 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 09/03/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
International Dioxcide, Inc.
US
Inventores
B. K. (pessoa física)
US
D. K. (pessoa física)
US
J. S. (pessoa física)
US
Prioridades unionistas
US
09/389,335 · 03/09/1999
Resumo técnico
Patente de Invenção: "GERADOR PARA A GERAÇÃO DE DIÓXIDO DE CLORO SOB EDUÇÃO A VÁCUO EM UMA ÚNICA PASSAGEM". Um gerador eletrolítico operado a vácuo pode ser usado para produzir uma solução de dióxido de cloro ou uma névoa de dióxido de cloro a partir de uma solução de cloreto de metal alcalino aquosa tamponada em uma passagem através de uma pilha eletrolítica. A pilha contém um anodo de área de superfície superior, um catodo condutor altamente resistente à corrosão, e uma membrana de troca de íon de cátion entre o anodo e o catodo. Um edutor é usado na linha efluente do anólito para criar um vácuo e puxar o anólito através da pilha. Ou água motriz ou um gás inerte motriz (tal como ar) é usado no edutor. De preferência, um edutor é usado na linha efluente do católito. Uma linha efluente do anólito ascendente com uma válvula de parada não-corrosiva leva da pilha para o edutor do anodo. Sensores são usados para monitorar a composição do efluente do anólito e/ou da alimentação do anólito. O produto final é uma solução de dióxido de cloro quando água é usada para a edução. O produto final é uma névoa consistindo essencialmente em dióxido de cloro gasoso, um gás inerte, e vapor de água quanto um gás inerte é usado para a edução. A névoa é útil para aplicação em plantações, solos, produtos tal como vegetais, fruta tabaco, campos, porões de armazenamento e similar.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2029 de 24/11/2009.
09/03/2011
RPI 2096
#8.6
Referente a 7ª, 8ª e 9ª anuidade(s).
24/11/2009
RPI 2029
#1.3.1
Referente a RPI 1635 de 07/05/2002, quanto ao item (71)
30/01/2007
RPI 1882
#1.3
07/05/2002
RPI 1635
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