Dados do pedido
Número
PI0013846Tipo
Depósito
Publicação
PCT
DE2000002423 Patente concedida em 15/06/2010 e depois extinta em 10/01/2017. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 10/01/2017. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Atotech Deutschland GmbH
DE
Inventores
F. K. (pessoa física)
DE
M. G. (pessoa física)
DE
Classificação IPC
Prioridades unionistas
DE
199 44 908.2 · 10/09/1999
Resumo técnico
Patente de Invenção: "PROCESSO PARA FORMAÇÃO DE UM PADRÃO CONDUTOR EM SUBSTRATOS DIELÉTRICOS". Para formar um padrão condutor em substratos dielétricos, é proposto um processo, no qual a) um substrato coberto com um filme metálico é revestido com uma camada protetora, que é formada tratando-se o filme metálico com uma solução, que contém pelo menos um composto contendo nitrogênio, b) a camada protetora é removida por radiação de UV, pelo menos parcialmente, nas regiões que não correspondem ao padrão condutor a ser formado, de tal modo que o filme metálico está exposto e c) o filme metálico exposto é depois removido por corrosão. Por meio desse processo, podem ser produzidos padrões condutores extremamente finos, de modo reprodutível, em substratos dielétricos.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2385 de 20-09-2016 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
10/01/2017
RPI 2401
#21.6
Referente à 16ª anuidade.
20/09/2016
RPI 2385
#16.1
15/06/2010
RPI 2058
#9.1
29/09/2009
RPI 2021
Referente a RPI 2014 de 11/08/2009.
15/09/2009
RPI 2019
#11.2
11/08/2009
RPI 2014
#6.1
13/01/2009
RPI 1984
#1.3
14/05/2002
RPI 1636
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