Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
17/08/2004
RPI 1754
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Dado oficial do INPI
PROCESSO E DISPOSITIVO PARA ISOLAMENTO DE COMPONENTES ELETROTÉCNICOS
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · EP2000007380
Dados do pedido
Número
PI0013432Tipo
Patente de Invenção
Depósito
31/07/2000
Publicação
11/06/2002
PCT
EP2000007380 Andamento no INPI
- Depósito31/07/00
- Publicação11/06/02
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 31/07/2000, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 17/08/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Schenectady International, INC.
US
Inventores
G. H. (pessoa física)
DE
K. L. (pessoa física)
DE
M. E. (pessoa física)
DE
R. B. (pessoa física)
DE
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
DE
199 39 760.0 · 21/08/1999
Resumo técnico
"PROCESSO E DISPOSITIVO PARA ISOLAMENTO DE COMPONENTES ELETROTÉCNICOS". O processo para a têmpera de massas de isolamento elétrico é caracterizado pelo emprego e/ou co-emprego de radiação próxima ao infravermelho ( NIR ) de um comprimento de onda de 500 nm a 1400 nm. Radiação próxima ao infravermelho possibilita também, com agentes de impregnação termicamente temperáveis, uma têmpera muito rápida da superfície dos componentes com boa têmpera mesmo de camadas mais espessas na profundidade dessas camadas. Ademais, é possível uma têmpera combinada por exemplo com luz próxima a infravermelho e a UV.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
23/12/2003
RPI 1720
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
11/06/2002
RPI 1640
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