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Dado oficial do INPI

COMPLEXOS FOTOSENSIBILIZADOR-DENDRIMER PARA APLICAÇÕES MEDICINAIS

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · IB2000001165

Dados do pedido

Número

PI0013304

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

28/07/2000

Publicação

07/01/2003

PCT

IB2000001165

Andamento no INPI

  1. Depósito28/07/00
  2. Publicação07/01/03
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 28/07/2000, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 17/08/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Biolitec Ag

DE

Biolitec Inc.

US

Inventores

B. R. (pessoa física)

DE

G. W. (pessoa física)

DE

S. H. (pessoa física)

DE

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

DE

199 36 997.6 · 02/08/1999

Resumo técnico

"COMPLEXOS FOTOSENSIBILIZADOR-DENDRIMER PARA APLICAÇÕES MEDICINAIS". Um método para realçar tratamentos de Terapia Fotodinâmica (PDT) pela aplicação de complexos fotosensibilizadores-dendrimers para trazer múltiplas moléculas fotosensibilizadoras para um local de tratamento que seja provido. Fotosensibilizadores são covalentes binário para os locais periféricos de união dos dendrimers e estão sendo separados em um ou mais ciclos sucessivos. Tetrapirrois são fotosensibilizadores trabalhados. Em um aspecto o complexo é também unido a um anticorpo ou a fragmentos deste, os quais auxiliam em conduzir o complexo no local desejado de tratamento. Após a aplicação, os fotosensibilizadores são liberados, para o local de tratamento, a partir destes complexos seja pela luz, química, ou uma combinação de efeitos de luz/química. Geralmente os fotosensibilizadores desenvolvem suas atividades fotodinâmicas como moléculas livres após serem liberadas do complexo. Mais de um tipo de fotosensibilizador pode ser unido no complexo. Liberação e ativação pode ser feita em uma simples etapa ou em etapas repetidas.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

17/08/2004

RPI 1754

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

23/12/2003

RPI 1720

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

07/01/2003

RPI 1670

Monitoramento de patentes

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