Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 1912 de 28/08/2007.
13/12/2011
RPI 2136
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Dado oficial do INPI
PROCESSO PARA A PRODUÇÃO DE UM SUBSTRATO, PROCESSO A BAIXA PRESSÃO PARA A DEPOSIÇÃO DE UMA CAMADA METÁLICA REFLETIVA SOBRE UM SUBSTRATO, VIDRO REVESTIDO, E USO DE UM LIMPADOR DE OXIGÊNIO GASOSO
Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · GB2000000402
Dados do pedido
Número
PI0007608Tipo
Patente de Invenção
Depósito
10/02/2000
Publicação
02/01/2002
PCT
GB2000000402 Andamento no INPI
- Depósito10/02/00
- Publicação02/01/02
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 13/12/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Pilkington PLC
GB
Inventores
J. S. (pessoa física)
GB
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
GB
9903056.1 · 12/02/1999
Resumo técnico
"PROCESSO PARA A PRODUÇÃO DE UM SUBSTRATO, PROCESSO A BAIXA PRESSÃO PARA A DEPOSIÇÃO DE UMA CAMADA METÁLICA REFLETIVA SOBRE UM SUBSTRATO, VIDRO REVESTIDO, E USO DE UM LIMPADOR DE OXIGÊNIO GASOSO". Um processo para a produção de um substrato revestido, preferivelmente vidro, que compreende depositar um metal refletivo, especialmente uma camada de prata, através de um processo de deposição à baixa pressão realizado em uma atmosfera de formação de camada que contém um limpador de oxigênio gasoso. A presença do limpador de oxigênio gasoso minora a oxidação da camada de prata por meio de qualquer gás oxigênio presente na atmosfera de formação de camada. O limpador de oxigênio gasoso pode ser um hidrocarboneto e é preferivelmente o metano. O processo de revestimento é preferivelmente por crepitação.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
referente 6ª e 7ª anuidades
28/08/2007
RPI 1912
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
02/01/2002
RPI 1617
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