Republicação - classificação IPC
#15.11
Procedimento automático de reclassificação. A classificação IPC anterior era A61K 7/075.
27/03/2018
RPI 2464
Dados do pedido
Número
PI0004517Tipo
Depósito
Publicação
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 27/03/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
L'Oreal
FR
Inventores
B. B. (pessoa física)
FR
V. M. (pessoa física)
FR
Prioridades unionistas
FR
9912170 · 29/09/1999
Resumo técnico
"COMPOSIÇÃO E PROCESSO DE LAVAGEM DE MATÉRIAS QUERATÍNICAS E UTILIZAÇÃO DA COMPOSIÇÃO". Composição de lavagem das matérias queratínicas, compreendendo em um meio cosmeticamente aceitável: i) pelo menos um agente tensoativo detergente; (ii) pelo menos um silicone funcionalizado; e(iii) pelo menos um terpolímero acrílico constituído por um monômero (a) escolhido dentre um acrilato de alquila C~ 1~-C~ 6~ e um metacrilato de alquila em C~ 1~-C~ 6~; de um monômero (b) escolhido dentre um composto vinílico heterocíclico contendo pelo menos um átomo de nitrogênio ou de enxofre, uma (met)acrilamida, um (met)acrilato de mono- ou di-alquil (C~ 1~-C~ 4~) amino alquila C~ 1~-C~ 4~, e uma mono- ou di- C~ 1~-C~ 4~-alquil (C~ 1~-C~ 4~) amino alquil (C~ 1~-C~ 4~) (met)acrilamida; de um monômero(c) escolhido dentre um uretano produzido por reação entre um isocianato insaturado monoetilênico e um agente tensoativo não iônico, um monômero tensoativo etilênico copolimerizável, um monômero tensoativo de tipo uréia, um éter de alila com grupamento alquilenoxi e um monômero não iônico de tipo uretano.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#15.11
Procedimento automático de reclassificação. A classificação IPC anterior era A61K 7/075.
27/03/2018
RPI 2464
#8.11
Referente ao despacho publicado na RPI 1962 de 12/08/2008.
03/03/2009
RPI 1991
#8.6
Referente à 6ª, 7ª e 8ª anuidades.
12/08/2008
RPI 1962
#3.1
23/01/2001
RPI 1568
#2.1
28/11/2000
RPI 1560
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