Carta-patente expirada
#21.1
Patente extinta em 14/07/2020
06/07/2021
RPI 2635
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Dado oficial do INPI
SISTEMA DE RADIAÇÃO UV TENDO MATERIAIS PARA ATENUAR SELETIVAMENTE A RADIAÇÃO.
Arquivada/ExtintaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI0003325Tipo
Patente de Invenção
Depósito
13/07/2000
Publicação
13/03/2001
Andamento no INPI
- Depósito13/07/00
- Publicação13/03/01
- Exame
- Deferimento14/06/11
- Concessão10/01/12
- Expirado06/07/21
Carta-patente expirada em 06/07/2021: o prazo de proteção chegou ao fim. A tecnologia está em domínio público e pode ser explorada livremente no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 06/07/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Johnson & Johnson
US
Inventores
A. K. (pessoa física)
US
J. E. (pessoa física)
US
J. E. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
09/515,190 · 29/02/2000
US
60/143,607 · 13/07/1999
Resumo técnico
Patente de Invenção: "SISTEMA DE RADIAÇÃO UV TENDO MATERIAIS PARA ATENUAR SELETIVAMENTE A RADIAÇÃO" . Esta invenção proporciona um sistema de radiação de alta energia, que produz radiação UV compreendendo um material seletivamente atenuante, que aumenta a razão de radiação desejada para indesejada, para reduzir o dano de radiação a um alvo por atenuação seletiva de pelo menos 30 por cento da radiação superior a 200 a 240 nm, que impinge no dito material atenuante e direciona mais do que 50 por cento da radiação de 240 nm e 280 nm, que impinge no dito material atenuante.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
16.3
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 13/07/2000, observadas as condições legais. Patente concedida conforme ADI 5.529/DF, que determina a alteração do prazo de concessão
22/06/2021
RPI 2633
Extinção para fins de restauração (art. 87)
#21.6
Referente à 21ª anuidade.
18/05/2021
RPI 2628
Concessão da patente
#16.1
10/01/2012
RPI 2140
Deferimento
#9.1
14/06/2011
RPI 2110
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
19/10/2010
RPI 2076
Publicação do pedido de patente
#3.1
13/03/2001
RPI 1575
Pedido de patente depositado
#2.1
28/11/2000
RPI 1560
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