Republicação - classificação IPC
#15.11
Procedimento automático de reclassificação. As classificações IPC anteriores eram: A61K 7/48; A61K 7/02; A61K 7/00.
27/03/2018
RPI 2464
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Dado oficial do INPI
UTILIZAÇÃO DE PARTÍCULAS DE ORGANOPOLISSILOXANO SÓLIDO ELASTOMÉRICO E PROCESSO COSMÉTICO
Arquivada/ExtintaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI0000617Tipo
Patente de Invenção
Depósito
07/02/2000
Publicação
02/05/2001
Andamento no INPI
- Depósito07/02/00
- Publicação02/05/01
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 27/03/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
L'Oreal
FR
Inventores
I. B. (pessoa física)
FR
Dados técnicos
Prioridades unionistas
FR
9901447 · 08/02/1999
Resumo técnico
''UTILIZAÇÃO DE PARTÍCULAS DE ORGANOPOLISSILOXANO SÓLIDO ELASTOMÉRICO E PROCESSO COSMÉTICO'' A presente invenção trata da utilização de partículas de organopolissiloxano sólido elastomérico pelo menos parcialmente reticulado em suspensão em uma fase aquosa, em uma composição de aplicação tópica resistente à água. Essa composição é mais especialmente uma composição de cuidado ou de maquilagem dos lábios ou uma composição de base para a pele tanto do rosto quanto do corpo humano. Essa composição é de aplicação suave e fresca, espalha-se facilmente, não é pegajosa nem ressecante para a pele e os lábios. Adapta-se perfeitamente às graxas, em virtude de seu alto poder de opacificação.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao não cumprimento do despacho 8.6 na RPI 1913 de 04/09/2007.
13/08/2013
RPI 2223
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente à 3º, 4º, 5º, 6º e 7º anuidades.
04/09/2007
RPI 1913
Publicação do pedido de patente
#3.1
02/05/2001
RPI 1582
Pedido de patente depositado
#2.1
28/11/2000
RPI 1560
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