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Dado oficial do INPI

LUVA NITRÍLICA COM DISPOSITIVO DE LIMPEZA ACOPLADO

Arquivada/ExtintaModelo de Utilidade

Dados do pedido

Número

MU8803164

Tipo

Modelo de Utilidade

Depósito

17/12/2008

Publicação

03/08/2010

Andamento no INPI

  1. Depósito17/12/08
  2. Publicação03/08/10
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 02/10/2012. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

A. L. (pessoa física)

SP, BR

L. R. (pessoa física)

SP, BR

Inventores

A. L. (pessoa física)

BR

L. R. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

A presente patente modelo de utilidade refere-se à uma luva inteiriça com dispositivo de limpeza fixado em sua região palmar; o referido dispositivo de limpeza pode ter a sua fixação temporária, por meio de velcro, ou permanente, por meio de substâncias adesivas de alta potencia; o referido dispositivo de limpeza possui preferencialmente o formato idêntico ao da mão incluindo-se os dedos; o dispositivo de limpeza com fixação temporária permite que este seja substituído sempre que se fizer necessário. São produzidas com 100 de borracha nitrílica, não há cera, plastificante ou silicone em sua formulação, os quais podem ocasionar contaminação no manuseio ou fabricação de diversos produtos, ainda protegem contra respingos de químicos, possuem bainha para a proteção dci pulso, não contém talco, amido ou proteinas para evitar irritação nas mãos do usuário.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2156 de 02/05/2012.

02/10/2012

RPI 2178

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 3ª anuidade.

02/05/2012

RPI 2156

Publicação do pedido de patente

#3.1

03/08/2010

RPI 2065

Pedido de patente depositado

#2.1

13/10/2009

RPI 2023

Monitoramento de patentes

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