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Modelo de UtilidadeMU8501354

DISPOSIÇÃO INTRODUZIDA EM TOCHA PARA QUEIMA DE GASES E LIQUIDOS RESIDUAIS OU SIMILARES

BTS Termodinâmica de Sistemas Ltda

Arquivada/ExtintaIPC F23D 14/38

Andamento no INPI

  1. Arquivado

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 12/06/2012. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Dados técnicos

Resumo técnico

"DISPOSIÇÃO INTRODUZIDA EM TOCHA PARA QUEIMA DE GASES E LÍQUIDOS RESIDUAIS OU SIMILARES". Idealiza uma tocha para queima de gases e líquidos residuais (1), construída em uma estrutura de coluna tubular (2) revestida internamente com material de isolamento térmico (3), contendo internamente, bocais de combustão (4) acionadas por chama piloto (5), as quais queimam os elementos combustíveis que são aprovisionados pelas tubulações (6) e dutos de aprovisionamento (7), monitorado e gerenciado pelo trem de controle e segurança (8) contendo os dispositivos de controle métrico (17), segurança (18) e filtragem (19), sendo sua base de apoio (9) com reforços (10), instalada diretamente sobre um piso de concreto (11); a tocha para queima de gases e líquidos residuais (1) possui um ventilador externo (12) para serviços de expurgo, porta de inspeção e serviço (13), suportes para eletrodutos (14), olhal de içamento (15) e anteparo de gotejamento (16); a chama piloto (5) é acionada por um transformador de ignição (20) alocado externamente; o material isolante térmico (3) é fixado internamente interna na coluna tubular (2) em pontos de fixação (21).

Classificação IPC

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

12/06/2012

RPI 2162

Arquivamento definitivo por descumprimento

8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2134 de 29/11/2011.

29/11/2011

RPI 2134

Arquivamento por falta de pagamento

8.6

Referente a 5ªe 6ª anuidade(s).

19/12/2006

RPI 1876

Publicação do pedido de patente

3.1

23/08/2005

RPI 1807

Pedido de patente depositado

2.1

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