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Dado oficial do INPI

MATERIAL À BASE DE SILICATO DE ALUMÍNIO DESIDROXILADO, PROCESSO E INSTALAÇÃO PARA TRATAMENTO DE DESIDROXILAÇÃO DE SILICATO DE ALUMÍNIO E PROCESSO PARA APERFEIÇOAR A CINÉTICA DA REAÇÃO POZOLÂNICA DE MATERIAL À BASE DE SILICATO DE ALUMÍNIO

Arquivada/ExtintaCertificado de Adição

Dados do pedido

Número

C10207331

Tipo

Certificado de Adição

Depósito

06/11/2003

Publicação

19/10/2004

Andamento no INPI

  1. Depósito06/11/03
  2. Publicação19/10/04
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 23/10/2012. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Saint-Gobain Materiaux de Construction SAS

FR

Inventores

G. C. (pessoa física)

FR

Dados técnicos

Prioridades unionistas

FR

01/03094 · 20/02/2001

Resumo técnico

"MATERIAL À BASE DE SILICATO DE ALUMÍNIO DESIDROXILADO, PROCESSO E INSTALAÇÃO PARA TRATAMENTO DE DESIDROXILAÇÃO DE SILICATO DE ALUMÍNIO E PROCESSO PARA APERFEIÇOAR A CINÉTICA DA REAÇÃO POZOLÂNICA DE MATERIAL À BASE DE SILICATO DE ALUMÍNIO". A invenção refere-se a um material à base de silicato de alumínio desidroxilado apresentando uma reatividade pozolânica mais rápida, caracterizada pelo fato de que a quantidade de hidróxido de cálcio reagido, medida pela reatividade pozolânica (RP) após uma cura de 3 dias, é de pelo menos 50 %. Em um processo e uma instalação para tratamento de desidroxilação de silicato de alumínio, partículas contendo silicato de alumínio são expostas a uma temperatura de pelo menos 500 C. As partículas encontram-se na forma de um pó seco, e o pó seco (26) é opcionalmente transportado em um fluxo de gás (30) a uma temperatura abrangendo de 600 a 850 C, durante um período que é suficiente para se atingir o grau desejado de desidroxilação. O pó pode ser obtido de uma pasta de base hidratada através da redução da pasta de base a fragmentos (23), e da desagregação dos fragmentos (23) da pasta de base por meio de ação mecânica (em 3) na presença de um gás quente (24) a uma temperatura abrangendo de 500 C a 800 C, de modo a formar o pó seco (26).

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2155 de 24/04/2012.

23/10/2012

RPI 2181

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente às 8ª, 9ª e 10ª anuidades.

24/04/2012

RPI 2155

Publicação do pedido de patente

#3.1

19/10/2004

RPI 1763

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