Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
20/11/2007
RPI 1924
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Dado oficial do INPI
RESINA EPÓXI, POLIFENOL GLICIDILADO DE UM FENOL E GLIOXAL,E COMPOSIÇÃO
ArquivadaCertificado de Adição
Dados do pedido
Número
C10006082Tipo
Certificado de Adição
Depósito
04/04/2001
Publicação
07/08/2001
Andamento no INPI
- Depósito04/04/01
- Publicação07/08/01
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 04/04/2001, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 20/11/2007. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Borden Chemical, Inc.
US
Inventores
A. G. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Prioridades unionistas
US
09/298.153 · 23/04/1999
Resumo técnico
"RESINA EPÓXI, POLIFENOL GLICIDILADO DE UM FENOL E GLIOXAL, E COMPOSIÇÃO" Trata-se de resina epóxi sendo selecionada do grupo que consiste em: (a) um polifenol glicidilado de um feno e giolxal que antes da glicidilação o polifeno tem uma absorbância no ultraviolata de pelo menos 0,260 em 365 nm e/ou pelo menos 0,400 em 350 nm; (b) um produto de reação de cerca de 4 a 8 partes de um poliepóxido para cada parte de um polifenol de um fenol e glioxal, em que o polifenol tem uma absorbância no ultravioleta de pelo menos 0,260 em 365 nm e/ou pelo menos 0,400 em 350 nm; e (c) suas misturas.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
06/02/2007
RPI 1883
Publicação do pedido de patente
#3.1
07/08/2001
RPI 1596
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