Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
24/02/2026
RPI 2877
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Dado oficial do INPI
PREPARAÇÃO COSMÉTICA
Em AnálisePatente de InvençãoPCT · JP2023044037
Dados do pedido
Número
112025009536Tipo
Patente de Invenção
Depósito
08/12/2023
Publicação
24/02/2026
PCT
JP2023044037 Andamento no INPI
Exame ainda não requerido- Depósito08/12/23
- Publicação
- Exame
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
O exame técnico ainda não foi requerido. Sem esse requerimento até 08/12/2026, o pedido é arquivado em definitivo (art. 33 da LPI).
Prazo para requerer o exame:08/12/2026(faltam 106 dias)
Última movimentação publicada pelo INPI: 24/02/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
MOMENTIVE PERFORMANCE MATERIALS JAPAN LLC
JP
Inventores
Q. L. (pessoa física)
JP
Y. H. (pessoa física)
JP
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
2022-196467 · 08/12/2022
Resumo técnico
PREPARAÇÃO COSMÉTICA. Para fornecer uma preparação cosmética atingindo excelente usabilidade espalhando bem, sem sensação pegajosa e fornecendo um revestimento macio, a preparação contendo os seguintes componentes (A) e (B): (A) um ou dois ou mais selecionados de 1,1,1,3,5,5,5-heptametil-3-alquil (C10-14) trissiloxanos; e (B) uma resina de silicone com uma fórmula unitária média de RaSiO(4-a)/2 e um ponto de amolecimento térmico de 50°C ou mais, em que R representa os mesmos ou diferentes grupos hidrocarboneto monovalente substituído ou não substituído e a é um número de 1,2 a 2.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Exigências diversas
#1.5
Apresentar novas folhas referentes ao relatório descritivo traduzido e ao resumo do pedido, adaptadas aos Art. 18 e 26, I, da Portaria/INPI/nº 14/2024, uma vez que os títulos devem estar centralizados na parte superior da página. A exigência deve ser respondida em até 60 (sessenta) dias de sua publicação, por meio da petição GRU código de serviço 207.
16/12/2025
RPI 2867
Alteração de dados cadastrais
#1.1
10/06/2025
RPI 2840
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