Patente de Invenção USO DE GÁS RICO EM CO2 COMO UM GÁS DE VARREDURA EM UMA INSTALAÇÃO QUÍMICA de TOPSOE A/S — IPC C01B 3/34. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.
USO DE GÁS RICO EM CO2 COMO UM GÁS DE VARREDURA EM UMA INSTALAÇÃO QUÍMICA. A presente invenção refere-se a uma instalação, por exemplo, uma instalação de gás de síntese ou uma instalação de hidrogênio, ou uma instalação combinada de gás de síntese e hidrogênio. A instalação compreende uma seção de reforma, uma seção de remoção de CO2 e uma primeira unidade de eletrólise. Uma primeira porção de uma primeira corrente rica em CO2 produzida a partir da seção de remoção de CO2 é disposta para ser suprida para o anodo da primeira unidade de eletrólise como um gás de varredura para gás produto oxigênio. Certas correntes, a jusante da primeira unidade de eletrólise, são dispostas para serem alimentadas para a seção de reforma como pelo menos uma porção de uma alimentação rica em oxigênio. Vários processos também são providos para a produção de hidrogênio e/ou gás de síntese na instalação.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
