15.7
Alteração de dados cadastrais no Inid (54).
04/08/2026
RPI 2900
Dados do pedido
Número
112025001509Tipo
Depósito
Publicação
PCT
IB2023057576 Patente de Invenção (via PCT) depositado no INPI em 26/07/2023. Aguarda exame formal e publicação na RPI.
Última movimentação publicada pelo INPI: 04/08/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
PFIZER INC.
US
Inventores
A. B. (pessoa física)
US
B. G. (pessoa física)
US
C. G. (pessoa física)
US
C. C. (pessoa física)
US
D. S. (pessoa física)
US
D. E. (pessoa física)
CH
G. I. (pessoa física)
US
G. R. (pessoa física)
US
J. O. (pessoa física)
US
M. P. (pessoa física)
US
R. D. (pessoa física)
US
S. B. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
63/393,712 · 29/07/2022
Resumo técnico
INIBIDORES DE ACC. A presente invenção refere-se a um composto possuindo as estruturas: (I) em que; R é selecionado do grupo que consiste em H, C1-C6 alquila, C1-C6 alcóxi e -(CH2)m-W, onde W é C3-C8 cicloalquila, bicicloalquila, bicicloalquila em ponte, fenila, heteroarila de 5 ou 6 membros ou heterocíclico contendo um, dois ou três heteroátomos selecionados do grupo que consiste em átomos de N, S e O; R1 é selecionado do grupo que consiste em fenila, naftila, heteroarila de 5 ou 6 membros ou heterocíclico contendo um, dois, três ou quatro heteroátomos selecionados do grupo que consiste em átomos de N, S e O; e, uma arila bicíclica de 9 ou 10 membros, heteroarila ou heterocíclico contendo um, dois ou três heteroátomos selecionados do grupo que consiste em átomos de N, S e O; em que cada um dentre a referida fenila, naftila, arila, heterocíclico, ou heteroarila pode ser não substituído ou substituído por halo, ciano, deutério, hidróxi, C1-C6 alquila, C1-C6 alcóxi, fenila, -SO2-R, -CONRR, NRCOR, -NRCONRR, -NRCO2R, -(CH2)n-SO2-R, -NHSO2-R, - NRSO2-R, -SO2NRR, -P(O)RR, ou NRR ou SR onde R e R são independentemente H, C1-C6 alquila ou C3-C8 cicloalquila; e, m e n são independentemente 0, 1, 2 ou 3, A invenção também refere-se a sais farmaceuticamente aceitáveis destes compostos e a solvatos farmaceuticamente aceitáveis dos mesmos; a composições contendo tais compostos, tais compostos; e aos usos de tais compostos no tratamento de várias doenças, particularmente acne.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Alteração de dados cadastrais no Inid (54).
04/08/2026
RPI 2900
#1.3
01/07/2025
RPI 2843
#1.1
04/02/2025
RPI 2822
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