Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
07/07/2026
RPI 2896
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Dado oficial do INPI
EXTRATO DE PLECTRANTHUS AMBOINICUS PARA USO NO ALÍVIO DE DISTÚRBIOS DE PELE INDUZIDOS POR RADIAÇÃO
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · CN2023102711
Dados do pedido
Número
112024027255Tipo
Patente de Invenção
Depósito
27/06/2023
Publicação
15/07/2025
PCT
CN2023102711 Andamento no INPI
- Depósito27/06/23
- Publicação15/07/25
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 27/06/2023, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 07/07/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
ONENESS BIOTECH CO., LTD.
CN
Inventores
J. C. (pessoa física)
CN
K. L. (pessoa física)
TW
S. C. (pessoa física)
TW
Dados técnicos
Prioridades unionistas
US
63/355,995 · 27/06/2022
Resumo técnico
EXTRATO DE PLECTRANTHUS AMBOINICUS PARA USO NO ALÍVIO DE DISTÚRBIOS DE PELE INDUZIDOS POR RADIAÇÃO. A presente invenção refere-se a um método para aliviar o distúrbio de pele induzido por radiação (por exemplo, dermatite por radiação) que compreende administrar a um indivíduo com necessidade do mesmo uma quantidade eficaz de uma composição farmacêutica que compreende salvigenina e, opcionalmente, cirsimaritina, ácido rosmarínico, carvacrol ou uma combinação dos mesmos.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
15/07/2025
RPI 2845
Exigências diversas
#1.5
Apresentar novas folhas referentes ao relatório descritivo traduzido e ao resumo do pedido, adaptadas aos Arts. 26 e 40 da Portaria INPI nº14/2024, uma vez que o conteúdo encaminhado encontra-se fora da norma (uso de expressão adicional antes do título). A exigência deve ser respondida em até 60 (sessenta) dias de sua publicação por meio de petição código de serviço 207.
06/05/2025
RPI 2835
Alteração de dados cadastrais
#1.1
04/02/2025
RPI 2822
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