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Dado oficial do INPI

DERIVADO DE ÁCIDO ASCÓRBICO OU SAL DO MESMO, E COSMÉTICO DO MESMO

Em AnálisePatente de InvençãoPCT · JP2023022484

Dados do pedido

Número

112024021514

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

16/06/2023

Publicação

11/02/2025

PCT

JP2023022484

Andamento no INPI

  1. Depósito16/06/23
  2. Publicação
  3. Exame
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Patente de Invenção (via PCT) depositado no INPI em 16/06/2023. Aguarda exame formal e publicação na RPI.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 11/02/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

SEIWA KASEI COMPANY, LIMITED

JP

Inventores

A. T. (pessoa física)

JP

M. I. (pessoa física)

JP

M. Y. (pessoa física)

JP

N. I. (pessoa física)

JP

S. S. (pessoa física)

JP

T. H. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Prioridades unionistas

JP

2022-188247 · 25/11/2022

JP

2023-064299 · 11/04/2023

Resumo técnico

DERIVADO DE ÁCIDO ASCÓRBICO OU SAL DO MESMO, E COSMÉTICO DO MESMO. A presente invenção refere-se a um derivado de ácido ascórbico ou um sal do mesmo que tem as funções inerentes de ácido ascórbico superiores, tais como, uma ação de clareamento, uma ação de promoção de produção de colágeno e uma ação de retenção de umidade, ao mesmo tempo sendo estável, mesmo quando armazenado durante um longo período, demonstrando pouca alteração na cor, alteração no odor, redução na atividade e similar, a presente invenção fornece um derivado de ácido ascórbico ou um sal do mesmo, em que um hidrogênio entre os grupos hidroxila na segunda posição e na terceira posição de ácido ascórbico foi substituído por R-O-CH2-CH(OH)-CH2-, R-O-CH2-CH(CH2OH)-, R-CH(CH2OH)-, R-CH(OH)-CH2- (R sendo H, um grupo alquila, um grupo alquenila ou um grupo fenila), HO-C(CH3)2-CH2- ou HO-CH2-C(CH3)2-. A presente invenção também fornece um cosmético incluindo referido derivado de ácido ascórbico ou um sal do mesmo.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

11/02/2025

RPI 2823

Alteração de dados cadastrais

#1.1

29/10/2024

RPI 2808

Monitoramento de patentes

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