(11) 98705-3426
TrademarkIQ íconeTrademarkIQ
Voltar para busca
Dado oficial do INPI

SISTEMA DE RAIOS-X RESFRIADO A AR E MÉTODO DE RESFRIAMENTO A AR DE UM SISTEMA DE RAIOS-X DE FEIXE DE LÁPIS DE VARRIMENTO

ConcedidaPatente de InvençãoPCT · US2023015657

Dados do pedido

Patente de Invenção SISTEMA DE RAIOS-X RESFRIADO A  AR E MÉTODO DE RESFRIAMENTO A  AR DE UM SISTEMA DE RAIOS-X DE FEIXE DE LÁPIS DE VARRIMENTO de SEETHRU AI INC. — IPC A61B 6/00
Patente de Invenção SISTEMA DE RAIOS-X RESFRIADO A AR E MÉTODO DE RESFRIAMENTO A AR DE UM SISTEMA DE RAIOS-X DE FEIXE DE LÁPIS DE VARRIMENTO de SEETHRU AI INC. — IPC A61B 6/00. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.

Número

112024015666

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

20/03/2023

Publicação

14/01/2025

PCT

US2023015657

Andamento no INPI

  1. Depósito20/03/23
  2. Publicação14/01/25
  3. Exame
  4. Deferimento09/09/25
  5. Concessão07/10/25
  6. Em vigor20/03/43

Patente concedida em 07/10/2025 e em vigor até 20/03/2043. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:20/03/2043

Deixe seu contato e avisamos você

Acompanhamos as publicações do INPI e avisamos assim que houver movimentação neste processo.

Usamos seus dados apenas para este aviso.

Última movimentação publicada pelo INPI: 07/10/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

SEETHRU AI INC.

US

Inventores

A. M. (pessoa física)

US

O. A. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

18/123,482 · 20/03/2023

US

63/322,696 · 23/03/2022

Resumo técnico

SISTEMA DE RAIOS-X RESFRIADO A AR E MÉTODO DE RESFRIAMENTO A AR DE UM SISTEMA DE RAIOS-X DE FEIXE DE LÁPIS DE VARRIMENTO. A presente invenção fornece sistemas e métodos para criar um feixe de lápis de varrimento de raios-X e o resfriamento a ar do sistema. O sistema possui um invólucro com fonte de raios-X disposta no mesmo. O anel de atenuação de raios-X apresenta ou é dotado de um anel de atenuação de raios-X próximo a uma extremidade do invólucro, sendo configurado e disposto de modo a girar o anel de atenuação de raios-X e formar um feixe de lápis de varrimento. O sistema tem pelo menos uma entrada de ar e uma saída de ar e pelo menos um dispositivo móvel de ar configurado e disposto para mover o ar através da entrada de ar e da saída de ar e para resfriar ar o sistema de raios-X.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 20/03/2023, observadas as condições legais

07/10/2025

RPI 2857

Deferimento

#9.1

09/09/2025

RPI 2853

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

20/05/2025

RPI 2837

28.30

Concedido o trâmite prioritário requerido através da petição nº 870250011695, de 12/02/2025, haja vista que atende ao disposto nos artigos 3º, 4º e 5º da Portaria/INPI/PR nº 48, de 29/11/2024, publicada na RPI 2814, de 10/12/2024.

06/03/2025

RPI 2826

28.10.32

Notificação de requerimento de trâmite prioritário de PPH, conforme protocolo n° 870250011695, de 12/02/2025

25/02/2025

RPI 2825

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

14/01/2025

RPI 2819

Exigências diversas

#1.5

Explique a divergência, com documentos comprobatórios se necessário, no depositante constante no pedido internacional como SEETHRU AL INC. e o constante no formulário da petição inicial e declaração de prioridade como SEETHRU AI INC. A exigência deve ser respondida em até 60 (sessenta) dias de sua publicação e deve ser realizada por meio da petição GRU código de serviço 207.

12/11/2024

RPI 2810

Alteração de dados cadastrais

#1.1

13/08/2024

RPI 2797

Monitoramento de patentes

Acompanhe esta patente em tempo real.

Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.