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Dado oficial do INPI

MÉTODO DE TRATAMENTO DE RESÍDUOS DOMÉSTICOS A BAIXA TEMPERATURA

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · IB2022060911

Dados do pedido

Patente de Invenção MÉTODO DE TRATAMENTO DE RESÍDUOS DOMÉSTICOS A BAIXA TEMPERATURA — IPC B03C 11/00
Patente de Invenção MÉTODO DE TRATAMENTO DE RESÍDUOS DOMÉSTICOS A BAIXA TEMPERATURA — IPC B03C 11/00. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.

Número

112024013494

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

14/11/2022

Publicação

07/01/2025

PCT

IB2022060911

Andamento no INPI

  1. Depósito14/11/22
  2. Publicação07/01/25
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 14/11/2022, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 10/02/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

A. S. (pessoa física)

RU

D. A. (pessoa física)

AM

M. M. (pessoa física)

RU

Inventores

D. A. (pessoa física)

AM

M. M. (pessoa física)

RU

Dados técnicos

Resumo técnico

MÉTODO DE TRATAMENTO DE RESÍDUOS DOMÉSTICOS A BAIXA TEMPERATURA. A presente invenção refere-se a métodos de gestão de resíduos domésticos, em particular, a métodos de eliminação de resíduos pelo método de destruição química por plasma. A presente invenção visa obter um efeito técnico de alargamento da gama de soluções técnicas, proporcionando um método de destruição de resíduos domésticos a baixa temperatura de tratamento que é comparável à temperatura ambiente. Este efeito técnico é alcançado através de um método de destruição, onde os resíduos domésticos são introduzidos em um reator através de uma abertura de entrada, e a entrada de ar atmosférico no reator é restringida. O reator é fornecido na forma de uma cavidade fechada, cuja superfície interna é inteiramente ou parcialmente condutora e aterrada. Um eletrodo se projeta para dentro do reator e esse eletrodo é isolado da superfície aterrada. Pulsos de alta tensão são fornecidos ao eletrodo. Os pulsos causam a formação de serpentinas de descarga de corona em um espaço entre o eletrodo e a superfície condutora do reator.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

10/02/2026

RPI 2875

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

25/11/2025

RPI 2864

15.9

Perda da prioridade 2021140063 (RU) pela não apresentação de cópia do correspondente documento de cessão no prazo legal de 60 (sessenta) dias da petição de Entrada na Fase nacional do Brasil conforme os Art. 16 § 6° da Lei nº 9.279/1996 e Art 19 da Portaria/INPI/nº 39/2021, uma vez que depositante da fase nacional do PCT é distinto daquele que depositou a prioridade reivindicada.

14/01/2025

RPI 2819

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

07/01/2025

RPI 2818

Exigências diversas

#1.5

Apresentar, em até 60 (sessenta) dias, a tradução simples da folha de rosto da certidão de depósito da prioridade RU 2021140063 de 30/12/2021 ou declaração contendo, obrigatoriamente, todos os dados identificadores desta conforme o Art. 15 da Portaria 39/2021. A tradução apresentada não possui todos os dados identificadores necessários.

01/10/2024

RPI 2804

Alteração de dados cadastrais

#1.1

09/07/2024

RPI 2792

Monitoramento de patentes

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