(11) 98705-3426
TrademarkIQ íconeTrademarkIQ
Voltar para busca
Dado oficial do INPI

REATOR PARA DISPOSITIVO DE ELIMINAÇÃO DE RESÍDUOS

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · IB2022058935

Dados do pedido

Patente de Invenção REATOR PARA DISPOSITIVO DE ELIMINAÇÃO DE RESÍDUOS — IPC B09B 3/40
Patente de Invenção REATOR PARA DISPOSITIVO DE ELIMINAÇÃO DE RESÍDUOS — IPC B09B 3/40. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.

Número

112024013491

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

21/09/2022

Publicação

07/01/2025

PCT

IB2022058935

Andamento no INPI

  1. Depósito21/09/22
  2. Publicação07/01/25
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

Falar com um especialista

Última movimentação publicada pelo INPI: 13/01/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

A. S. (pessoa física)

RU

D. A. (pessoa física)

AM

M. M. (pessoa física)

RU

Inventores

D. A. (pessoa física)

AM

M. M. (pessoa física)

RU

Dados técnicos

Resumo técnico

REATOR PARA DISPOSITIVO DE ELIMINAÇÃO DE RESÍDUOS. A presente invenção refere-se a dispositivos para eliminação de resíduos nos seus estados sólido, líquido e gasoso, em particular, refere-se a dispositivos para proporcionar eliminação de resíduos por destruição química de plasma. Um efeito técnico obtido pela presente invenção é a implementação de um reator que proporciona a destruição de substâncias orgânicas e inorgânicas de resíduos residenciais sólidos e/ou líquidos. O efeito técnico é obtido por um reator fornecido na forma de uma cavidade fechada tendo um orifício de entrada conectado a um aparelho de alimentação de resíduos e um orifício de saída para saída de produtos gasosos de destruição. As superfícies internas da cavidade são tornadas eletricamente condutoras total ou parcialmente e um eletrodo é inserido no reator. O eletrodo é isolado a partir das superfícies condutoras e conectado a uma fonte de pulsos de alta tensão, e o tamanho da lacuna entre o eletrodo e as superfícies condutoras da cavidade proporciona a formação de correntes de plasma por descarga de corona.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2855 de 23-09-2025 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

13/01/2026

RPI 2871

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 3ª anuidade.

23/09/2025

RPI 2855

15.9

Perda da prioridade 2021140063 (RU) pela não apresentação de cópia do correspondente documento de cessão no prazo legal de 60 (sessenta) dias da petição de Entrada na Fase nacional do Brasil conforme os Art. 16 § 6° da Lei nº 9.279/1996 e Art 19 da Portaria/INPI/nº 39/2021, uma vez que depositante da fase nacional do PCT é distinto daquele que depositou a prioridade reivindicada.

14/01/2025

RPI 2819

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

07/01/2025

RPI 2818

Exigências diversas

#1.5

Apresentar, em até 60 (sessenta) dias, a tradução simples da folha de rosto da certidão de depósito da prioridade RU 2021140063 de 30/12/2021 ou declaração contendo, obrigatoriamente, todos os dados identificadores desta conforme o Art. 15 da Portaria 39/2021. A tradução apresentada não possui todos os dados identificadores necessários.

01/10/2024

RPI 2804

Alteração de dados cadastrais

#1.1

09/07/2024

RPI 2792

Monitoramento de patentes

Acompanhe esta patente em tempo real.

Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.