MÉTODO PARA USINAGEM ADITIVA DE UM SEGMENTO DE PLACA DE REFINADOR QUE TEM UM PADRÃO DE RECURSO, MÉTODO PARA USINAGEM ADITIVA DE UM SEGMENTO DE PLACA DE REFINADOR EM BRANCO SEM UM PADRÃO DE RECURSO, MÉTODO PARA REMODELAR UM PADRÃO DE RECURSO DE UM SEGMENTO DE PLACA DE REFINADOR COM O USO DE USINAGEM ADITIVA, MÉTODO PARA USINAGEM ADITIVA DE UM SEGMENTO DE PLACA DE REFINADOR E MÉTODO PARA USINAGEM ADITIVA DE UM SEGMENTO DE PLACA DE REFINADOR QUE TEM UM PADRÃO DE RECURSO PARCIAL
Patente de Invenção MÉTODO PARA USINAGEM ADITIVA DE UM SEGMENTO DE PLACA DE REFINADOR QUE TEM UM PADRÃO DE RECURSO, MÉTODO PARA USINAGEM ADITIVA DE UM SEGMENTO DE PLACA DE REFINADOR EM BRANCO SEM UM PADRÃO DE RECURSO, MÉTODO PARA REMODELAR UM PADRÃO DE RECURSO DE UM SEGMENTO DE PLACA DE REFINADOR COM O USO DE USINAGEM ADITIVA, MÉTODO PARA USINAGEM ADITIVA DE UM SEGMENTO DE PLACA DE REFINADOR E MÉTODO PARA USINAGEM ADITIVA DE UM SEGMENTO DE PLACA DE REFINADOR QUE TEM UM PADRÃO DE RECURSO PARCIAL de ANDRITZ INC. — IPC B02C 7/12. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.
MÉTODO PARA USINAGEM ADITIVA DE UM SEGMENTO DE PLACA DE REFINADOR QUE TEM UM PADRÃO DE RECURSO, MÉTODO PARA USINAGEM ADITIVA DE UM SEGMENTO DE PLACA DE REFINADOR EM BRANCO SEM UM PADRÃO DE RECURSO, MÉTODO PARA REMODELAR UM PADRÃO DE RECURSO DE UM SEGMENTO DE PLACA DE REFINADOR COM O USO DE USINAGEM ADITIVA, MÉTODO PARA USINAGEM ADITIVA DE UM SEGMENTO DE PLACA DE REFINADOR E MÉTODO PARA USINAGEM ADITIVA DE UM SEGMENTO DE PLACA DE REFINADOR QUE TEM UM PADRÃO DE RECURSO PARCIAL. Trata-se de um método para usinagem aditiva de um segmento de placa de refinador que tem um padrão de recurso que inclui: fabricar o segmento de placa de refinador com um padrão de recurso parcial a partir de um primeiro material; realizar escaneamento óptico do segmento de placa de refinador para identificar posições de recursos no padrão de recurso parcial; gerar automaticamente primeiro código para realizar impressão tridimensional (3D) de um segundo material em primeiras localizações especificadas no padrão de recurso parcial a partir de dados obtidos a partir do escaneamento óptico; e realizar impressão 3D do segundo material nas localizações especificadas.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
