(11) 98705-3426
TrademarkIQ íconeTrademarkIQ
Voltar para busca
Dado oficial do INPI

ARTIGO DE LIMPEZA DE PELE INCLUINDO SUBSTRATO DE NÚCLEO DISPERSÍVEL EM ÁGUA E/OU SOLÚVEL EM ÁGUA

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US2022028213

Dados do pedido

Número

112023023175

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

06/05/2022

Publicação

30/01/2024

PCT

US2022028213

Andamento no INPI

  1. Depósito06/05/22
  2. Publicação30/01/24
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 06/05/2022, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

Falar com um especialista

Última movimentação publicada pelo INPI: 29/07/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

MONOSOL, LLC

US

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

J. K. (pessoa física)

US

J. P. (pessoa física)

US

R. G. (pessoa física)

US

R. S. (pessoa física)

US

V. B. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

17/737,969 · 05/05/2022

US

63/185,725 · 07/05/2021

Resumo técnico

ARTIGO DE LIMPEZA DE PELE INCLUINDO SUBSTRATO DE NÚCLEO DISPERSÍVEL EM ÁGUA E/OU SOLÚVEL EM ÁGUA.Um artigo de limpeza de pele configurado para dispensar cosméticos ou terapias dérmicas à pele de um usuário e um método de fazer os mesmos são providos. Por exemplo, o artigo de limpeza de pele inclui um substrato de núcleo compreendendo uma resina. O substrato de núcleo tem uma primeira região contendo uma primeira formulação de limpeza ativa e uma segunda região contendo uma segunda formulação de limpeza ativa. O artigo de limpeza da pele é substancialmente seco ou sólido e é dispersível em água ou solúvel em água. Quando o substrato de núcleo solúvel em água é colocado em contato com água tendo uma temperatura maior que 10°C por um período de tempo, o substrato de núcleo é dispersível ou solúvel de acordo com o Método de Teste MSTM-205 para liberar a primeira formulação de limpeza ativa e/ou a segunda formulação de limpeza ativa.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

29/07/2025

RPI 2847

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

13/05/2025

RPI 2836

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

30/01/2024

RPI 2769

Alteração de dados cadastrais

#1.1

14/11/2023

RPI 2758

Monitoramento de patentes

Acompanhe esta patente em tempo real.

Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.