(11) 98705-3426
TrademarkIQ íconeTrademarkIQ
Voltar para busca
Dado oficial do INPI

SISTEMA E MÉTODOS PARA FORMAÇÃO E MANUTENÇÃO DE PLASMA FRC DE ALTA ENERGIA E TEMPERATURA POR MEIO DE FUSÃO DE ESFEROMA E INJEÇÃO DE FEIXE NEUTRO

Em ExigênciaPatente de InvençãoPCT · US2021013295

Dados do pedido

Número

112022013552

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

13/01/2021

Publicação

06/09/2022

PCT

US2021013295

Andamento no INPI

Exigência a cumprir
  1. Depósito13/01/21
  2. Publicação06/09/22
  3. Exame
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

O INPI fez uma exigência técnica neste pedido. Se não for cumprida no prazo, o pedido é arquivado (art. 36 da LPI).

Prazo para cumprir a exigência:16/11/2026(faltam 83 dias)

Deixe seu contato e avisamos você

Acompanhamos as publicações do INPI e avisamos assim que houver movimentação neste processo.

Usamos seus dados apenas para este aviso.

Última movimentação publicada pelo INPI: 18/08/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

TAE TECHNOLOGIES, INC.

US

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

H. G. (pessoa física)

US

T. T. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

62/960,585 · 13/01/2020

Resumo técnico

SISTEMA E MÉTODOS PARA FORMAÇÃO E MANUTENÇÃO DE PLASMA FRC DE ALTA ENERGIA E TEMPERATURA POR MEIO DE FUSÃO DE ESFEROMA E INJEÇÃO DE FEIXE NEUTRO. Um sistema de configuração reversa de campo (FRC) de alto desempenho inclui uma câmara de confinamento central, duas câmaras desviadoras acopladas à câmara e dois injetores de esferoma diametralmente opostos acoplados às câmaras desviadoras. Um sistema magnético inclui bobinas quase-dc posicionadas axialmente ao longo dos componentes do sistema de FRC.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

18/08/2026

RPI 2902

Parecer de pré-exame

#6.23

24/02/2026

RPI 2877

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

06/09/2022

RPI 2696

Alteração de dados cadastrais

#1.1

19/07/2022

RPI 2689

Relacionados

Do mesmo titular

Da mesma categoria

Monitoramento de patentes

Acompanhe esta patente em tempo real.

Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.