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Dado oficial do INPI

DISPOSITIVO PARA FORNECIMENTO DE UMA COMPOSIÇÃO A UM SISTEMA DE DEPOSIÇÃO PRESSURIZADO

Em ExigênciaPatente de InvençãoPCT · US2020014088

Dados do pedido

Número

112021014710

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

17/01/2020

Publicação

28/09/2021

PCT

US2020014088

Andamento no INPI

Exigência a cumprir
  1. Depósito17/01/20
  2. Publicação28/09/21
  3. Exame
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

O INPI fez uma exigência técnica neste pedido. Se não for cumprida no prazo, o pedido é arquivado (art. 36 da LPI).

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Última movimentação publicada pelo INPI: 24/02/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

CHENANGO ONE LLC

US

CHENANGO TWO LLC

US

CHENANGO ZERO LLC

US

CURRAHEE HOLDING COMPANY INC.

US

JOHNSON & JOHNSON CONSUMER INC.

US

KENVUE BRANDS LLC.

US

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Inventores

C. B. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

62/798,745 · 30/01/2019

Resumo técnico

DISPOSITIVO PARA FORNECIMENTO DE UMA COMPOSIÇÃO A UM SISTEMA DE DEPOSIÇÃO PRESSURIZADO. A presente invenção se refere a um dispositivo para dispensação de uma composição fluida de uso tópico que inclui um reservatório (102) que armazena a composição e dispensa um fluxo pressurizado da composição. O dispositivo inclui também um acumulador (108) que tem uma câmara expansível (109) em comunicação fluida com o reservatório (102). A câmara (109) é propendida para uma configuração desinflada de modo que, quando preenchida com a composição, a câmara (109) se expande contra essa configuração aplicando pressão à composição armazenada na mesma. O dispositivo inclui uma válvula de suprimento (104) que regula o fluxo da composição do reservatório (102) para o acumulador (108), e um sensor de pressão (106). O dispositivo inclui adicionalmente uma disposição de processamento (112) que analisa dados do sensor (106) para determinar se a pressão no acumulador está acima de um limite pré-determinado e controlar a válvula de suprimento (104) para manter a pressão dentro de uma faixa de pressão desejada. O dispositivo inclui também uma disposição de deposição (110) que dispensa a composição do acumulador sob o controle da disposição de processamento (112).

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

24/02/2026

RPI 2877

Alteração de nome deferida

#25.4

21/10/2025

RPI 2859

Alteração de sede deferida

#25.7

07/10/2025

RPI 2857

Parecer de pré-exame

#6.23

13/05/2025

RPI 2836

Alteração de sede deferida

#25.7

25/06/2024

RPI 2790

Alteração de nome deferida

#25.4

18/06/2024

RPI 2789

Transferência deferida

#25.1

04/06/2024

RPI 2787

Alteração de nome deferida

#25.4

11/10/2022

RPI 2701

Transferência deferida

#25.1

27/09/2022

RPI 2699

Transferência deferida

#25.1

13/09/2022

RPI 2697

Transferência deferida

#25.1

30/08/2022

RPI 2695

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

28/09/2021

RPI 2647

Alteração de dados cadastrais

#1.1

03/08/2021

RPI 2639

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